X线头影测量分析.ppt

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1、X线头影测量分析Cephalometrics Analysis,Company Logo,简介,1934年Hofrath and Broadbent 提出 我国于20世纪60年代初运用于临床,Company Logo,通过测量X 线头颅定位照相所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查诊断由表面形态深入到内部的骨骼结构中去,它是正畸临床诊断及治疗设计的一种重要手段.,X线头影测量分析,简言之： 通过对X片进行分析、测量，从而了解牙颌、颅面骨骼及软组织发育状况及相互关系 。,Company Logo,一、主要应用,研究颅面

2、生长发育 牙颌、颅面畸形的诊断分析 确定错牙合畸形的矫治计划 研究矫治中，矫治后的变化 外科正畸的诊断和矫治设计 下颌功能分析,Company Logo,1.研究颅面生长发育,不同个体同一年龄段横向研究颅面发育 同一个体各年龄段-纵向研究颅面发育 明确了颅面生长发育机制，快速生长期的年龄、及对颅面生长发育的预测。 -“颅面生长发育”章节,Company Logo,2.牙颌、颅面畸形的诊断分析,Company Logo,3.确定错牙合畸形的矫治计划,确定牙和颌位的理想位置，制定可行的矫治方案,Company Logo,4.研究矫治中及矫治后牙颌、颅面的变化,治疗中,矫治后,对比,Company

3、Logo,5.外科正畸的诊断和矫治设计,通过X线对颅面畸形患者进行分析 得出畸形的机制 确定手术部位、方法及需要移动或切除的部位,Company Logo,局限性,标记点的定位都是相对 标记时存在个体差异 存在种族、性别的差异,Company Logo,1.头颅定位X线要求：,头颅定位的关键在于：定位仪上左右耳塞与眶点指针，三者构成一与地面平行的恒定平面。,定位,Company Logo,2.头影图的描绘,X线头影图像上，因头颅本身厚度或个体两侧结构不完全对称而出现的左右影像不完全重合,按其平均中点来作描绘,Company Logo,传统X线片,数字化X线片,Company Logo,传统手描

4、图,数字化描图,Company Logo,常用头影测量标志点,标志点：用来构成一些平面及测量内容的点 1.解剖的，真正代表颅骨的解剖结构 2.引伸的，如两测量平面相交的一个标志点,定点准确才能获得相应准确的头影测量分析结果！,Company Logo,标志点,硬组织测量标志点 软组织测量标志点,Company Logo,硬组织测量标志点,Company Logo,额点（G） 鼻小柱点（Cm） 鼻下点（Sn） 上唇缘点（UL） 下唇缘点（LL） 软组织颏前点(Pgs) 软组织颏下点(Mes) 颈点（C）,软组织测量标志点,Company Logo,Landmark （定点）,Company Lo

5、go,1.颅部标志点,Company Logo,定点,S (Sella 蝶鞍中心点),Company Logo,定点,N (Nasion 鼻根点)：鼻额缝最前点,Company Logo,定点,P( Porion耳点 ）：机械耳点,Company Logo,定点,颅底点( Ba,basion ）枕骨大孔前缘中点,Company Logo,定点,Bolton点：枕骨髁突后切迹最凹点,Company Logo,2.上颌标志点,Company Logo,定点,Or (orbitale 眶点),Company Logo,翼上颌裂点（Ptm）：翼上颌裂轮廓最下点,Company Logo,前鼻棘（ANS

6、）：前鼻棘之尖,Company Logo,A (Subspinale上齿槽座点),Company Logo,定点,UI (Upper incisor上中切牙切端),Company Logo,3.下颌标志点,Company Logo,定点,髁顶点(Co):髁突最上点,Company Logo,定点,关节点（Ar):颅底下缘与下颌髁突颈后缘之交点,Company Logo,定点,Go (Gonion下颌角点) ：下颌支平面与下颌角平面交角之分角线与下颌角的交点,Company Logo,B (Supramental下齿槽座点),Company Logo,LI (Lower incisor下中切牙切

7、端),Company Logo,定点,Po (Pogonion颏前点)：颏部最突点,Company Logo,定点,Me (Menton颏下点),Company Logo,Gn (Gnathion 颏顶点) :颏前点与颏下点之中点,Company Logo,D点 :下颌体骨性联合部之中心点,Company Logo,第二次实验,Company Logo,头影测量平面,Company Logo,1.基准平面(Reference line)： 头影测量中相对稳定的平面,Company Logo,SN 平面 前颅底平面 FH 平面Frankfort 平面 Bolton平面 Bolton点与鼻根点连线

8、,1.基准平面,Company Logo,基准平面,SN plane前颅底平面,Company Logo,基准平面,FH plane眶耳平面,Company Logo,基准平面,Bolton平面,Company Logo,基准平面,Company Logo,测量平面,Company Logo,测量平面,腭平面(ANS-PNS),Company Logo,测量平面,全颅底平面（Ba-N):颅底点与鼻根点连线,Company Logo,全颅底平面,Company Logo,测量平面,牙合平面(OP) 1:第一磨牙咬合中点于上下切牙间中点连线。 2:功能牙合平面：第一恒磨牙及第一乳磨牙或第一前磨牙的

9、牙合接触点,Company Logo,测量平面,下颌平面（MP） 1:通过颏下点于下颌角下缘相切的线,Company Logo,测量平面,下颌平面（MP） 2:下颌下缘最低点的切线,Company Logo,测量平面,下颌平面（MP） 3:下颌角点与下颌颏顶点间连线,Company Logo,测量平面,下颌支平面(RP):下颌升支及髁突后缘的切线,Company Logo,测量平面,面平面（NP)：鼻根点与颏前点连线,Company Logo,测量平面,Y轴：蝶鞍中心与颏顶点连线,Company Logo,常用硬组织测量项目,Company Logo,X线头影测量,常用于临床对错牙合畸形机制进

10、行分析,明确牙齿、牙弓、颌骨、颅面间的关系不调,测量上、下颌各自的形态、大小和相互间的位置关系及牙齿位置或倾斜度,得出相应诊断,Company Logo,前提：,正常值的确定,Company Logo,头影测量分析目的:,确定牙和颌位的理想位置，制定可行的矫治方案,Company Logo,每一个项目有特定意义说明相应结构的特征或生长变化趋势！ 必须综合的评价各项测量指标，才能明确畸形机制，作出正确诊断!,Company Logo,上下颌骨的常用测量项目,Company Logo,测量内容,SNA angle：反映上颌相对颅骨的前后位置,Company Logo,测量内容,SNB angle：

11、反映上颌相对颅骨的前后位置,Company Logo,测量内容,ANB angle：反映上颌相对颅骨的前后位置,Company Logo,基准平面,NP FH（面角）:反映下颌的突缩程度。,此角越大则下颌？,相对突度越大,Company Logo,测量内容,NAPA (颌凸角)：反映上颌相对整个侧面的关系,此角越大则上颌？,相对突度越大,Company Logo,测量内容,Y轴角:反映颏部的突缩，也代表面部生长发育方向,此角越大则颏部？生长发育方向?,颏部后缩 垂直生长型,Company Logo,测量内容,MPFH 下颌平面角：反映1.下颌体陡度2.下颌角大小 3.面高度：短面型/长面型,C

12、ompany Logo,测量内容,ANS-Ptm （上颌长）,Company Logo,测量内容,S-Ptm （上颌位置）,Company Logo,测量内容,Co-Pog（下颌长）,Company Logo,测量内容,S-Co（下颌位置）,Company Logo,上下前牙常用测量项目,Company Logo,测量内容,UISN angle,Company Logo,测量内容,LI MP angle,此角越大则下前牙？,唇倾度大,Company Logo,测量内容,U1NA:上切牙对于前颅底的相对倾斜度,Company Logo,测量内容,U1NA distance (U1-NA距),Co

13、mpany Logo,测量内容,L1NB angle,Company Logo,测量内容,L1NB distance,Company Logo,测量内容,U1L1 angle：反映上下前部牙弓的突度。,Company Logo,测量内容,MPSN angle：与下颌平面角类似,Company Logo,头影测量分析方法很多 针对不同种族、人群研究课题的各测量项目均依据不同的分析内容而定。,Company Logo,华西医科大学头影测量分析法,头影测量分析表,Company Logo,Company Logo,测量内容,SNA angle：反映上颌相对颅骨的前后位置,Company Logo,测

14、量内容,SNB angle,Company Logo,测量内容,ANB angle,Company Logo,测量内容,MPFH angle（下颌平面角）,Company Logo,测量内容,PPFH,Company Logo,测量内容,Y轴角:反映颏部的突缩，也代表面部生长发育方向,Company Logo,测量内容,Npg-FH(面角),Company Logo,测量内容,U1SN angle,Company Logo,测量内容,L1 MP angle,Company Logo,测量内容,U1L1 angle：反映上下前部牙弓的突度。,Company Logo,测量内容,Ptm-A （上颌

15、长）,Company Logo,测量内容,Ptm-S（上颌位置）,Company Logo,测量内容,S-Go后面高,Company Logo,测量内容,Go-Co下颌支长,Company Logo,测量内容,Go-Pg（下颌体长）,Company Logo,测量内容,N-ANS上面高,Company Logo,测量内容,ANS-Me下面高,Company Logo,测量内容,U1PP距,Company Logo,测量内容,U6PP距,Company Logo,测量内容,L1 MP distanse,Company Logo,测量内容,L6 MP distanse,Company Logo,W

16、its分析法,BO,AO,BO,AO,Company Logo,Tweed三角 （FMA,IMPA,FMIA）,FMA,FMA,FMIA,FMIA,IMPA,FMIA,Tweed应用此三角分析得出美国白种正常牙合儿童， FMIA均值为65，此角是建立良好面型的良好条件。,Thank You !,The End,Company Logo,Landmark （定点） Reference line（基准平面） Cephalometric measurement （测量内容）,Company Logo,常用的分析方法,Downs analysis Tweed analysis Steiner anal

17、ysis Wylie analysis Rickettes analysis NJMU analysis,Company Logo,常用平面,眶耳平面（FH） 前颅底平面（SN） 审美平面（EP） 下颌平面（MP）,Company Logo,常用角度,颅底-上齿槽座角（SNA）：上颌对颅底位置关系 821 颅底-下齿槽座角（SNB）：下颌对颅底位置关系 791 上下齿槽座角（ANB）：上下颌位置关系 3 1,Company Logo,常用线距,全面高（NMe） 上面高（NANS） 下面高（ANSMe） 上面高/全面高 下面高/全面高,Company Logo,测量平面,下颌支平面(RP):下颌

18、升支及髁突后缘的切线,Company Logo,Contents,Company Logo,Hot Tip,How do I incorporate my logo to a slide that will apply to all the other slides? On the View menu, point to Master, and then click Slide Master or Notes Master. Change images to the one you like, then it will apply to all the other slides.,Compan

19、y Logo,Diagram,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,Title Add your text,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,Company Logo,Cycle Diagram,Company Logo,Diagram,Company Logo,Diagram,Company Logo,Diagram

20、,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Company Logo,Diagram,Add Your Title,Add Your Title,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,Company Logo,The

21、meGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,ThemeGallery is a Design Digital Content & Contents mall developed by Guild Design Inc.,Diagram,Text,Text,Text,Company Logo,Tab

22、le,Company Logo,Diagram,Title,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Company Logo,Diagram,Company Logo,Diagram,Your Text,Your Text,Your Text,Your Text,Your Text,Your Text,Your Text,Your Text,Company Logo,Diagram,Company Logo,Block Diagram,TEXT,TEXT,TEXT,TEXT,TEXT,TEXT,TEXT,TEXT,Company Logo,Table,Company Logo,3-D Pie Chart,Company Logo,Diagram,Add Your Title,Add Your Text,Add Your Text,Add Your Text,Thank You !,Add your company slogan,