电镀工艺件镀镍最后.pptx

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1、一、电镀镍的发展历史与瓦特型镀镍液1843年班特格尔镀镍1861年瓦特镀镍二战后光亮、半光亮镀镍双层镀镍三层镀镍复合镀镍再镀铬第1页/共159页二、镀镍层的性质和用途颜色：银白色略带米黄色密度：8.9g/cm3原子量：58.71熔点：1453晶型结构：面心立方具有铁磁性第2页/共159页耐蚀性镍与空气中的氧作用可形成保护性钝化膜而使镍具有良好的抗大气腐蚀性能镍容易钝化，钝化后化学稳定性更高常温下与空气、水都不发生反应，耐稀酸、稀碱、有机酸，但会受浓盐酸、稀硝酸、氨水、铵盐、氰化物的腐蚀第3页/共159页电化学性能标准电极电位：-0.25V相对于铁基金属为阴极性镀层 镍镀层往往多孔，常作中间层或

2、底层40-50微米复合镀SiCBNAl2O3ZrO2多层组合镀层Cu/Ni/Cr降低孔隙率提高硬度提高耐磨性第4页/共159页腐蚀第5页/共159页镀镍层的用途作为防护-装饰性镀层的底层或中间镀层镀镍层具有良好的抛光性硬度高，用于需要硬度和耐磨性的场合也用于电铸塑料成型模具热放射镀层第6页/共159页(一)、黑镍：常用于照相机零件、附件、建筑五金，镀层内含有硫化镍，镀后涂漆(二)、中间镀层及底镀层第7页/共159页缎面第8页/共159页绒面第9页/共159页(三)、用于制造电阻体常用的是在陶瓷基体上进行的化学镀镍而获得的电阻体(四)、用于制造金属镜(五)、用于电子和半导体元件的表面加工(六)、

3、电铸镍：例如唱片模板的制造第10页/共159页（凸版）第11页/共159页(七)、用于耐磨性的复合电镀：分散微粒有氧化物（氧化铝、氧化锆、二氧化硅、二氧化钛、三氧化钨）碳化物（碳化硅、碳化铬、碳化钨、碳化硼）第12页/共159页(八)、用于其他作用的复合电镀可作为自润滑的分散粒子有二硫化铝、石墨、氮化硼、氟化石墨、高分子氟化合物作为非粘接性的分散粒子有氟化石墨、聚四氟乙烯第13页/共159页镀镍液种类多，最多的为瓦特镍电解液大部分为弱酸性电解液碱性电解液主要有焦磷酸盐体系碱性含氨的镀镍液三、镀镍液种类第14页/共159页按镀液类型分：瓦特型（硫酸盐氯化物型）氯化物型氯化铵型氨基磺酸型-成本高氟

4、硼酸盐镀镍-镀厚镍中性柠檬酸盐镀镍-锌压铸件镀镍液分类第15页/共159页焦磷酸盐镀镍碱性含氨的镀镍镀黑镍闪镀镍型醋酸镍型全硫酸盐镀镍第16页/共159页按镀液酸碱性分：酸性镀液碱性镀液第17页/共159页按镀镍层的装饰性：普通镀镍（暗镍）半光亮镀镍全光亮镀镍第18页/共159页按结构特征分：单层镍双层镍多层镍第19页/共159页按电镀工艺分：一般镀镍复合镀镍高硫镍高应力镍第20页/共159页按用途分类：一般装饰镀镍硬镍黑镍消光镀镍第21页/共159页按镀镍沉积速度分：一般镀镍快速镀镍第22页/共159页镍和其它金属的合金Ni-CoNi-SnNi-PNi-AuNi-AgNi-Pd第23页/共1

5、59页光半亮镀镍 光亮镀镍 镍封闭（复合镀镍）高应力镍高硫镍黑镍电铸镍常见的电镀镍溶液种类普通镀镍(暗镍)缎面镍第24页/共159页6.3.2 瓦特镀镍工艺特点电极反应工艺规范溶液的配制工艺维护第25页/共159页一、工艺特点 瓦特镀镍使用硫酸镍，少量氯化物和硼酸为基础的溶液，用这种溶液镀出的镍镀层结晶细致，易于抛光，韧性好，耐蚀性比亮镍好，沉积速度高，镀层脆性小，与钢铁基体结合力好。镀液维护容易，操作简便，对厂房和设备的腐蚀小。在这种溶液中加入添加剂可以直接镀出半光亮或光亮镍，溶液还具有相当好的整平能力，较少毛坯磨光和省去工序间抛光。第26页/共159页二、电极反应阴极阳极Ni2+2e-Ni

6、Ni-2e-Ni2+2H+2e-H22H2O-4e-4H+O2第27页/共159页阳极材料阳极用可溶性镍阳极防止镍阳极钝化加入一定量的氯化物铸造镍阳极轧制镍阳极普通电解镍板含硫电解镍阳极第28页/共159页溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件瓦特型瓦特型硫酸镍/(g/L)250-300氯化镍/(g/L)30-60氯化钠氯化钠/(g/L)硼酸/(g/L)35-40硫酸钠/(g/L)硫酸镁/(g/L)12烷基硫酸钠/(g/L)0.05-0.1pH3-4温度温度/45-60阴极电流密度阴极电流密度/(A/dm2)1-2.5三、工艺规范：P120预镀预镀180-22010-1230-3520-30

7、30-405-5.520-350.8-1.5第29页/共159页硫酸镍主盐 氯化镍或氯化钠阳极活化剂硼酸pH缓冲剂 硫酸钠、硫酸镁导电盐12烷基硫酸钠防针孔剂Ni(OH)2胶体第30页/共159页四、溶液配制氰化钠温水溶解1温度光亮镍的稳定电势第51页/共159页溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件半光亮镍半光亮镍1硫酸镍/(g/L)240-280氯化镍/(g/L)45-60硼酸/(g/L)30-40冰醋酸冰醋酸/(mL/L)1-31、4丁炔二醇/(g/L)0.2-0.3香豆素香豆素/(g/L)甲醛甲醛/(mL/L)12烷基硫酸钠/(g/L)0.01-0.02pH4.0-4.5温度温度/4

8、5-50阴极电流密度阴极电流密度/(A/dm2)3-4半光亮镀镍工艺规范半光亮镍半光亮镍2280-30030-4035-400.6-1.00.3-0.50.15-0.300.15-0.200.13.8-4.255-603-4冰醋酸的作用主要是抑制零件表面出现的点状腐蚀，并使表面光泽均匀细致。第52页/共159页单层镍：基体铜层镍层铬层4 多层镍技术及其耐蚀性孔隙率大内应力大第53页/共159页大阴极小阳极普通组合镀层容易出现直达基体金属的黄色锈蚀物第54页/共159页多层镍的组合形式多层镍的耐蚀性多层镍中不同镍层的电镀工艺第55页/共159页（1）多层镍的组合形式电镀两层镍：铜/半光亮镍/亮镍

9、/铬第56页/共159页两层镍：基体半光亮镍层光亮镍层铬层铜层含S量0.0030.005%；稳定电势-60mV含S量0.040.08%；稳定电势-220mV第57页/共159页注意：镀层含硫量越高，稳定电势（腐蚀电势）越低或者说：“镍层的稳定电位随硫含量的增加而变负”。第58页/共159页 对铁基体来说，半光亮镍与亮镍间的厚度比例为4：1；对锌铸件基体来说，半光亮镍与亮镍间厚度比例为3：2；实际生产时，双层镍的总厚度一般为20-40微米，半亮镍的厚度，通常是总镍层厚度的60-80，双层镍表面镀覆的光亮铬层一般控制在0.25微米左右；防护性能取决于半光亮镍与光亮镍层之间的层间电势差，电势差125

10、毫伏，才能使腐蚀集中于亮镍层横向发展而保护钢铁基体，一般通过降低半光亮镍层含硫量的方法来增大层间电势差；电镀双层镍注意事项：第59页/共159页 为了保证两层镍间的结合力，在生产时，应注意以下几点：(1)镀液要定期进行净化处理。这是因为镀液中添加剂不均匀，有有机杂质、金属杂质积累等因素，会助长镀层表面钝化或内应力增大，所以会使镀层结合力变坏。(2)镀镍层表面在空气中和水洗时容易钝化使电镀双层镍层间的结合力下降，故在两次电镀之间应尽量减少镀件在空气中停留时间，并简化中间水洗过程，零件可直接从半光亮镍槽进入亮镍槽。第60页/共159页(3)零件在空中移送时要极力防止镍层表面钝化，应尽量使周围操作环

11、境净化。(4)在自动线上镀双层镍，在半光亮镍进入亮镍槽时，应带电入槽，以防产生双极性电极现象。手工操作时，在挂具进出槽时，应减小电流，这样可减轻双极性电极现象。(5)绝对不能将含硫的镀镍初级光亮剂带入半亮镍槽中，否则会降低镍层之间的电位差。第61页/共159页+电镀三层镍：铜/半光亮镍/高硫镍/亮镍/铬铜/半光亮镍/亮镍/镍封/微孔铬铜/半光亮镍/亮镍/高应力镍/微裂纹铬第62页/共159页铜/半光亮镍/高硫镍/亮镍/铬：基体半光亮镍层光亮镍层铬层高硫镍层铜层含S量0.0030.005%；稳定电势-60mV含S量0.040.08%；稳定电势-220mV含S量0.10.2%；稳定电势-300mV

12、第63页/共159页注意：l腐蚀最先集中在高硫镍层l半光亮镍层：光亮镍层1：1第64页/共159页浸泡时间对瓦特型镀镍和光亮镀镍开路电极电势的影响条件：空气搅拌，pH=2的硫酸盐电解液第65页/共159页种类种类含硫量含硫量稳定电势稳定电势半光亮镍半光亮镍0.0030.005%-60mV光亮镍光亮镍0.040.08%-220mV高硫镍高硫镍0.10.3%-300mV半光亮镍、光亮镍、高硫镍含硫量及稳定电势比较第66页/共159页50-80mV220-240mV第67页/共159页-60mV-220mV-300mV第68页/共159页电位差厚度调节第69页/共159页（2）多层镍的耐蚀性牺牲阳极

13、型腐蚀分散型双层镍高硫镍组合镍封高应力镍第70页/共159页 是指通过牺牲多层镍组合镀层中电势较负的镀层来延缓电势较正的镀层的腐蚀，从而使整个镀层的耐蚀性能得到提高。牺牲阳极型：第71页/共159页S，Br，Ni半光亮镍Br，Ni 全光亮镍Tri，Ni 高硫镍第72页/共159页双层镍耐蚀机理示意图层状柱状第73页/共159页第74页/共159页亮镍第75页/共159页第76页/共159页三层镍耐蚀机理示意图第77页/共159页第78页/共159页 腐蚀分散型：微间断铬 是以适当的工艺，在铬层上形成大量数目的微孔隙或微裂纹，从而使腐蚀电流大大分散，以达到延缓腐蚀，使整个镀层体系的耐蚀性提高的目

14、的。第79页/共159页微孔铬微裂纹铬第80页/共159页获得微孔铬的方法镍封微孔数稳定，控制可靠、操作简单镍封之后镀铬微孔铬第81页/共159页获得微裂纹铬的方法在镀铬溶液中添加硒的化合物（SeO42-）镀铬后用热水处理镀双层铬：第一层普通镀铬0.25-0.35微米 第二层复合镀铬0.8-1.2微米在光亮镍层上闪镀高应力的薄镍层后，再镀普通光亮铬第82页/共159页微裂纹铬单层式双层式PNS式改变镀铬工艺 高应力镍（冲击镍）普通光亮铬层上有1-20条/cm2裂纹微裂纹铬层上有300-800条/cm2裂纹第83页/共159页镀液种类镀液种类 孔隙孔隙腐蚀电流腐蚀电流 穿透速度穿透速度常规铬常规

15、铬少、粗少、粗集中集中快快常规铬与微孔铬微裂纹铬的比较微孔铬微孔铬微裂纹铬微裂纹铬多、细多、细分散分散慢慢第84页/共159页全半高硫第85页/共159页铜加速醋酸盐雾试验TT三层镍-微孔铬三层镍-微裂纹铬双层镍-铬单层镍-铬三层镍-微裂纹铬三层镍-微孔铬双层镍-铬单层镍-铬第86页/共159页第87页/共159页第88页/共159页第89页/共159页第90页/共159页电镀四层镍：铜/半光亮镍/高硫镍/亮镍/镍封/微孔铬第91页/共159页高硫镍镍封高应力镍（3）多层镍中不同镍层的电镀工艺第92页/共159页 高硫镍（含硫量为0.1-0.3，其厚度为0.25-l m）在普通镀镍槽中加入适当

16、的含硫添加剂来实现高硫镍第93页/共159页溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件高硫镍高硫镍硫酸镍/(g/L)280-320氯化镍/(g/L)40-50硼酸/(g/L)35-45苯亚磺酸钠苯亚磺酸钠/(g/L)0.5-1.0糖精糖精/(g/L)0.8-1.01、4丁炔二醇/(g/L)0.3-0.512烷基硫酸钠/(g/L)0.05-0.15高硫镍的工艺规范：P135第94页/共159页溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件高硫镍高硫镍pH3-3.5温度温度/40-50阴极电流密度阴极电流密度/(A/dm2)3-4电镀时间电镀时间/min2-3搅拌方式搅拌方式空气搅拌或空气搅拌或阴极移动阴

17、极移动过滤方式过滤方式连续连续镍层总厚度25微米高硫镍0.25-1微米半光亮镍层占总厚度的50%以上第95页/共159页高硫镍的工艺流程前处理(除油、除锈)阴极电解除油阳极电解除油二次水洗稀酸活化镀半光亮镍镀高硫镍镀光亮镍水洗换挂具镀铬两次水洗干燥第96页/共159页高硫镍注意事项：在电镀三层镍时，要严防高硫镍镀液及光亮镍镀液进入半光亮镍槽中，否则将引起镀层耐蚀性降低，失去镀三层镍的意义。添加剂应使镀层具有足够的延性，内应力小，添加剂不会被活性炭吸附。镀液具有足够的稳定性。镀层表面要保持一定活性。高硫镍不能镀得太厚，否则表面镀亮镍时表面容易发雾。第97页/共159页第98页/共159页 也称复

18、合镀镍。镍封闭工艺是在一般光亮镀镍电解液中加入固体非金属微粒（直径0.5微米）借助激烈搅拌，使之悬浮在溶液里，实现固相微粒与镍离子共同沉积，并均匀分布在金属组织中，在制品表面形成由金属镍和非金属固体颗粒组成的致密镀层，在这种镀层上沉积铬时，由于微粒不导电，所以微粒上无铬层沉积，从而得到微孔型的铬层。镍封镍封闭：第99页/共159页镍封的工艺条件：P134溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件镍封镍封硫酸镍/(g/L)300-350氯化钠/(g/L)10-15硼酸/(g/L)35-40糖精糖精/(g/L)0.8-1.01、4丁炔二醇/(g/L)0.3-0.4二氧化硅微粉二氧化硅微粉/(g/L)

19、10-25促进剂促进剂/(g/L)适量适量第100页/共159页溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件镍封镍封pH3.8-4.4温度温度/50-55阴极电流密度阴极电流密度/(A/dm2)2-5电镀时间电镀时间/min1-5搅拌方式搅拌方式强烈搅拌强烈搅拌镍封层厚度0.2-2微米第101页/共159页镍封作用降低镀镍层的孔隙率和内应力形成微孔铬第102页/共159页镍封镀层的微粒种类Ni-SiO2Ni-Al2O3Ni-BaSO4Ni-高岭土Ni-膨润土Ni-玻璃Ni-石英Ni-金刚石Ni-滑石粉微粒厚度0.02-0.5m压缩空气搅拌常用的微粒有硫酸盐、硅酸盐、氧化物、氮化物和碳化物等。第10

20、3页/共159页镍封镀层的共沉积促进剂EDTAAl2(SO4)3LB-5第104页/共159页第105页/共159页第106页/共159页(1)镍封闭使用空气搅拌，并要合理排列送气孔，控制气流强度。(2)镍封厚度0.2-2m，厚度过大易“倒光”(3)pH值通常控制在3-5之间，pH过高，嵌入镀层中的微粒显著减少，pH过低，嵌入镀层中的微粒过多，会造成镀层“倒光”影响外观。镍封注意事项：第107页/共159页倒光是指漆膜干后有光泽，但在很短时间（数小时至数周）内光泽就减退消失的现象。失光是指有光漆在固化成漆膜后没有光泽，或光泽不足的现象。倒光与失光在现象上虽有差别，但产生的原因大致相同的。第10

21、8页/共159页(4)镍封镀层上沉积的普通光亮铬层，厚度0.25-0.5m，铬层太厚，超过微粒的粒径后，铬镀层会再一次连成片，称为“搭桥”，降低微孔密度，影响孔蚀效果。第109页/共159页生产维护阳极最好采用溶解性能较好的碳化镍、含硫镍板，采用阳极袋、阳极框零件必须紧紧扣在挂具上，根据其几何形状确定其悬挂方式和位置镀件入槽沉积镍封镀层之前，必须先开动搅拌设备，再通电镀件镀完出槽时，必须将黏附在其表面的微粒和电镀液冲洗干净第110页/共159页镀件从亮镍槽中出来时，可以不经水洗，直接进入镍封镀槽，动作要快，移动时间要短，要求带电入槽要注意排除电镀过程中的双极性现象，采用弹性挂钩镍封溶液在使用数

22、周后，需要进行大处理第111页/共159页第112页/共159页镍封溶液的配制在光亮镀镍溶液中加入计算量的共沉积促进剂，充分搅拌取计算量的固体微粒，先用少量温水、乙醇或丙酮等溶剂充分润湿，调成糊状，然后在激烈搅拌的情况下加入镀液。继续搅拌1h作用，使固体微粒在镀液中均匀悬浮，经短时间电解处理后，即可试镀pH控制在3-4，调节10%H2SO4或稀NaOH或NiCO3第113页/共159页第114页/共159页注意微孔铬的微孔数量不是越多越好若微孔数达到4105/cm2以上，则镀层的光亮度显著下降，甚至变成灰白色，这种现象称为“倒光”微孔数2 104/cm2 5104/cm2为宜第115页/共15

23、9页微孔数目检查方法：在微孔铬上进行硫酸盐酸性镀铜或化学接触镀铜第116页/共159页第117页/共159页四层镍汽车行业发展，对汽车轮圈外观，耐腐蚀提出更高要求，原三层镍已不能满足要求，因此必须镀四层镍，其在半光亮镍，高硫镍，亮镍上镀一层复合镍层，称为镍封闭(微孔镍)，再镀普通铬(微孔铬)，因此，而得到的装饰-防护性镀层，显著地提高了镀层的耐腐蚀性能，其原因在铬层表面生成大量肉眼不可见的微型纹或微孔，这些均匀地分布的微孔，由于腐蚀电流分散在整个镀层表面上，腐蚀电流密度大大降低，腐蚀速度也明显地减缓。第118页/共159页四层镍的工艺流程前处理二次水洗阴极电解除油清洗阳极电解除油二次水洗稀酸活

24、化镀半亮镍镀高硫镍镀光亮镍镍封二次水洗换挂具换挂具镀铬两次水洗干燥第119页/共159页注意在电镀四层镍时，严防将镍封镀液带入其他镀液中，否则将引起镀层耐腐蚀性及表面外观质量变差，失去镀四层镍意义。第120页/共159页钢铁基体上最佳防护组合氰化铜酸性光亮铜半光亮镍高硫镍光亮镍镍封铬第121页/共159页 高应力镍：在光亮镀镍层上再镀一层应力很高且结合力良好的薄镍层，然后，在标准镀铬槽中镀铬，因高应力镍层应力大龟裂成微裂纹，铬层也相应呈微裂纹状。高应力镍：P136第122页/共159页高应力镍的工艺流程：P136溶液的组成及操作条件溶液的组成及操作条件高应力镍高应力镍氯化镍/(g/L)220-

25、250乙酸钠/(g/L)60-80异烟肼异烟肼/(g/L)0.2-0.5pH4.5-5.5温度温度/30-35阴极电流密度阴极电流密度/(A/dm2)4-8电镀时间电镀时间/min2-5搅拌方式搅拌方式空气搅拌空气搅拌裂纹数裂纹数/(条条.cm-2)250-800第123页/共159页高应力镍电解液的主盐多采用氯化镍，也可部分采用硫酸盐，为了使镀层有高的应力，常使用多种有机添加剂。第124页/共159页微裂纹数目检查方法：在微裂纹铬上进行铬酸阳极处理或硫酸铜阴极电解处理将镀层放大100-200倍观察微裂纹数目应该在300-800条/cm2第125页/共159页镍镀层要求 要求镀层细致、均匀、结

26、合牢靠、不起皮、不起泡。对于普通镀镍层，要求厚度必达到一定的要求。光亮镀镍，要求亮度均匀，不允许“起花”现象。多层镍，主要考核各镀层之间的结合力一定要好，绝不允许起壳、脱皮现象，同时还要保证各层应有的厚度，以达到抗腐蚀能力的要求。第126页/共159页镀镍液中杂质的去除方法有机杂质会使镍镀层乌亮、结合力明显降低电镀镍层表面出现黑点和灰黑色有可能受到金属杂质的污染，尤其是受到铅杂质的污染可能性更大。第127页/共159页杂质的影响及去除方法大多数电镀镍加工厂家对镀镍液的大处理均采用加双氧水或高锰酸钾进行氧化处理，以去除镀液中的有机物和添加剂的分解杂质。低电流密度电解碱化法去除杂质酒石酸或柠檬酸作

27、掩蔽剂去杂水除铁剂第128页/共159页双氧水一活性炭净化处理采用双氧水一活性炭净化处理光亮镀镍溶液是行之有效的大处理方法之一。在搅拌下缓慢地加入双氧水2-4mL/L(加入前先稀释5-10倍，以利于发挥其作用，减少损耗)，继续搅拌1h，使溶液中的二价铁离子氧化成三价铁离子，有机杂质存在时也易被氧化，容易被活性炭吸附。加温至70，使残余双氧水分解，以免光亮剂遭到破坏。在搅拌下加入稀的氢氧化钠或氢氧化镍或碳酸镍，提高pH至5.5-6，使三价铁离子形成氢氧化铁沉淀。2Fe2+HO2H+2Fe3+2HO第129页/共159页碱化法去除杂质将镀液的pH值提高到6左右，使铜、铁、锌等异金属杂质成为氢氧化物

28、Me(OH)n的形式沉淀，再经过滤除去。第130页/共159页 除杂剂也分两大类：一类是选择性化学沉淀剂，与杂质金属离子形成较大颗粒的化合物，使之产生沉淀；另一类是选择性的螯合剂，与金属杂质形成螯合物，并且与镍在镀层中共沉积。除杂剂法去除金属杂质第131页/共159页镀镍溶液中杂质的去除少量：电解法、掩蔽剂较多：亚铁氰化钠化学法铜杂质2Cu2Na4Fe(CN)6Cu2Fe(CN)6十4Na第132页/共159页少量：电解法、掩蔽剂较多：CaCO3NaOH联合高pH值处理法锌杂质当镀镍液中锌杂质含量较高时，可先用CaCO3(或BaCO3)，提高镀液pH至5.5左右，再用NaOH或Ni(OH)2提

29、高镀液pH值至6.2，加热至65-70，搅拌30min-60min，静置后过滤。第133页/共159页双氧水CaCO3（或BaCO3）联合高pH值处理法除杂剂铁杂质先加30%的双氧水1mL/L，将Fe2氧化为Fe3十，然后加热至65-70，加入CaCO3(或BaCO3)提高pH值至5.5左右，搅拌30min-60min，趁热过滤除去沉淀，再调整镀镍液的pH值和成分后，即可正常镀镍。第134页/共159页研制的除铁剂B，只与铁离子络合。在电镀过程中，铁离子与镍离子发生了共沉积，能获得合格的镀层，克服了常规处理的弊病。除铁剂B第135页/共159页除铁剂FJ-N1 FJ-N1为液体添加剂FJ-N1

30、能与三价铁生成一种可溶性络合物，防止了氢氧化铁的析出。FJ-N1能迅速使三价铁还原成二价铁，沉积到镀层中去，且对镀件的平整性、光亮度、延展性、抗蚀性等无任何影响。FJ-N1消耗甚微，仅限于镀件带出消耗。可在生产过程中使用，不影响生产。第136页/共159页除铁剂QF在光亮镀镍液中混入50mg铁离子，镍层就会产生毛刺或针孔。此时加入 除铁剂QF后，能改变铁离子电位，迅速络合到镍层中，无须电解过滤。特别适用钢铁管状件镀镍。第137页/共159页保险粉法、硫酸亚铁法、铁还原碱沉淀法、电解法六价铬杂质pH控制在9-9.5左右第138页/共159页电解法(低pH值和高温)NaHSO3稀溶液法硝酸根杂质镀

31、液pH1-2，温度60-70，阴极电流密度先用lA/dm2-2A/dm2，使NO3-在阴极还原为NH3逸出，然后逐渐降低至0.2A/dm2，直至镀液正常为止。电解法(低pH值和高温)：亚硫酸氢钠又称酸式亚硫酸钠、重亚硫酸钠第139页/共159页第一步，通过赫尔槽试验确定应加入的NaHSO3量；第二步，按计算量的110%在不断强烈搅拌下慢慢加入稀NaHSO3溶液(以减少因生成SO2而过量消耗的HSO3-)，继续搅拌约5min；第三步，按lmL/L-2mL/L量加入30%的H2O2，加温(也可直接在热的镀镍液中处理)到55-60；搅拌反应约lh，氧化残存的NaHSO3并分解多余的H2O2。无需过滤

32、、调pH值到工艺范围即可试镀。NaHSO3稀溶液法：第140页/共159页双氧水一活性炭法高锰酸钾一活性炭法有机杂质双氧水一活性炭法用硫酸调镀液pH=3.5，向其加入30%的双氧水1mL/L-3mL/L，加热镀液至65-70，搅拌30min-60min；然后再加入3g/L-5g/L活性炭，搅拌30min左右后静置过滤；分析化验调整镀镍液成分及pH值后试镀。第141页/共159页(1)用稀硫酸调整镀镍溶液的pH值达3左右(2)高锰酸钾配成5的水溶液，在剧烈搅拌下缓慢加入溶液中(3)加热至60-80，持续搅拌2h，使其与高锰酸钾加速氧化反应(4)在搅拌下加入氢氧化镍或碳酸镍，提高pH至5.5-6，

33、使Fe3+形成氢氧化铁沉淀(5)加入5浓度的双氧水，以还原过剩的高锰酸钾，并使硫酸锰氧化成二氧化锰沉淀排除，此时溶液的淡红色应已褪尽。操作时应边加入双氧水边搅拌，同时观察淡红色褪除后停止加入双氧水高锰酸钾一活性炭法第142页/共159页(6)加入 FJN5 除铜剂，沉淀铜杂质，加完后继续搅拌30min(7)加入3-5g/L化学纯粉末状活性炭(加入前先调成糊状)，继续搅拌2h，使有机杂质充分被吸附除去(8)静置3-4h后过滤(9)调整pH值至工艺范围，低电流通电处理，试镀第143页/共159页十二烷基硫酸钠活性炭联合法油类杂质将镀镍液加热至60左右；在搅拌下加入0.8g/L-1g/L十二烷基硫酸

34、钠，继续搅拌60min(使十二烷基硫酸钠对油类杂质起乳化作用)；再加入3g/L-5g/L活性炭，搅拌30min后静置过滤；分析化验调整镀液成分后试镀。第144页/共159页不合格镀镍层的退除化学退除法电解退除法第145页/共159页1、化学法：钢铁基体浓硝酸浓硝酸1000mL/L氯化钠氯化钠40g/L温度温度50-60时间时间退净为止退净为止（1）第146页/共159页1、化学法：铜及其合金基体硫酸硫酸1份份 硝酸硝酸1份份 1%盐酸盐酸少量少量温度温度85（2）第147页/共159页1、化学法：铜及其合金基体间硝基苯磺酸钠间硝基苯磺酸钠 60-70g/L硫酸硫酸100-120g/L硫氰酸钾硫

35、氰酸钾0.5-1g/L温度温度80-100时间时间至棕色膜至棕色膜（3）氰化钠氰化钠30g/L氢氧化钠氢氧化钠30g/L第148页/共159页2、电解退除法：钢铁基体铬酐铬酐250-300g/L硼酸硼酸25-30g/L温度温度20-80阳极电流密度阳极电流密度3-7A/dm2（1）第149页/共159页2、电解退除法：铜及其合金、铝、锌硫酸硫酸1100-1250g/L甘油甘油25-30g/L温度温度35-40阳极电流密度阳极电流密度5-7A/dm2（2）第150页/共159页第151页/共159页第152页/共159页第153页/共159页第154页/共159页第155页/共159页第156页/共159页第157页/共159页第158页/共159页感谢您的观看！第159页/共159页