layout绘制.ppt

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1、LAYOUT绘制0.13um工艺版图小结结构v一.画版图前基本要求v二.版图的绘制v三.简单技巧和注意事项v四.小结前期要求v对系统和软件的熟悉在Terminal输入命令进入自己的目录，键入icfb&打开软件。选择FileNewCellview，LibraryName项选择库名，Tool项选择Virtuoso，ViewName自动变成layout，CellName输入所画版图名，点击OK就建立了新的版图单元。对编辑工具及快捷键要熟练灵活运用，ruler使用要细心。layout完成后还必须进行DRC和LVS验证。前期要求v熟悉LAYER和RULE画layout前必须熟悉版图用到了哪些图层和这些l

2、ayer的Rule，layout必须遵循这些rule并通过了DRC和LVS才能供他人使用。在满足工艺规则的条件下，追求layout最小面积。Layout绘制v布局布线layout第一步是分析电路结构，各晶体管端口的互联方式。可以在纸上画出草图，脑中对所需要的layout要有一个宏观布局。布局布线是layout的第一步也是最重要的一步，它在很大程度上决定了版图能否绘制成功和所能达到的最小面积。这方面经验占很大比重，初学者在思考时应多考虑几种方案，多尝试对比。Layout绘制vBoundary以坐标轴原点为起点，向X，Y的正方向延伸画出prBoundary，TB，SP，SN及上下靠近边界的TO和A

3、1层的大致框架。prboundary的高度是确定的，在横向方向上可以向X正轴拉伸，其沿X轴长度为pitch长度的整数倍。细节上可以参照RULE再作修改。boundary的临近layer都必须满足RULE的1/2。以0.13um工艺为例，TB，SN，SP有统一的高度（在边界上，以便和其他cell相拼），并对PRboundary有统一的extension，如图下所示：Layout绘制其中，紫色为PRboundary，黄色为TB，红色为SP，黑色为SN。Extension的具体数值为：a=0.03mb=0.31mc=0.11md=0.11me=0.03mf=0.31mh=1.91mi=2.38mj=

4、1.47mk=0.31mLayout绘制v内部结构1.先画TO，GT，A1层，在需要画W1的地方预留1个孔的空间。2.对pmos，nmos源和漏能等效的尽量通过调整位置和形状等效到一起。3.GT和A1连线及TO形状在规则条件下要灵活改变，上下空间要最大化利用。（后面（后面2条很难做到完美）条很难做到完美）vPIN放置1.pin的放置点需预留较大空间，但其所在金属层尽量不要影响横向尺寸，可通过A1引出到空间富裕处。2.相距较近的pin的“+”符号尽量上下错开。3.pin”+”符号所在位置应在横向和纵向距坐标轴都为N/2个pitch长度（N为奇数）。可用改变步长等方法寻找定位。Layout绘制细节和简单技巧v可建立一个名为boundary的框架Cell，每次只需调取即可。v及时保存，对于不确定要敢于尝试，layout绘制过程中可多次做DRC。vW1层最后完成，可细微调整，多打孔。v经常对前一段时间画的版图做一些对比总结，会带来很多经验启发。小结学习绘制版图主要是多尝试，多练习，多对比总结。这份PPT是基于前段时间学习0.13um基本cell版图绘制所做，希望对大家有所帮助。不足之处请大家多指教，多相互交流。