台州关于成立刻蚀设备公司可行性报告_模板范本.docx

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1、泓域咨询/台州关于成立刻蚀设备公司可行性报告台州关于成立刻蚀设备公司可行性报告xxx投资管理公司目录第一章 筹建公司基本信息8一、 公司名称8二、 注册资本8三、 注册地址8四、 主要经营范围8五、 主要股东8公司合并资产负债表主要数据10公司合并利润表主要数据10公司合并资产负债表主要数据11公司合并利润表主要数据11六、 项目概况12第二章 公司筹建方案16一、 公司经营宗旨16二、 公司的目标、主要职责16三、 公司组建方式17四、 公司管理体制17五、 部门职责及权限18六、 核心人员介绍22七、 财务会计制度23第三章 市场预测27一、 反应离子刻蚀27二、 离子束刻蚀27三、 干法

2、刻蚀是芯片制造的主流技术28第四章 项目建设背景、必要性30一、 原子层刻蚀为未来技术发展方向30二、 等离子体刻蚀面临的问题33三、 高密度等离子体刻蚀33四、 加快数字化赋能现代产业，打造先进制造新标杆35五、 走好科技新长征，构建全域创新新生态38六、 项目实施的必要性41第五章 发展规划分析42一、 公司发展规划42二、 保障措施43第六章 法人治理结构46一、 股东权利及义务46二、 董事53三、 高级管理人员58四、 监事60第七章 环境保护方案63一、 环境保护综述63二、 建设期大气环境影响分析63三、 建设期水环境影响分析64四、 建设期固体废弃物环境影响分析65五、 建设期

3、声环境影响分析66六、 环境影响综合评价66第八章 项目风险防范分析67一、 项目风险分析67二、 公司竞争劣势74第九章 项目选址方案75一、 项目选址原则75二、 建设区基本情况75三、 发展更高层次的开放型经济，构建开放接轨新通道78四、 项目选址综合评价80第十章 进度实施计划81一、 项目进度安排81项目实施进度计划一览表81二、 项目实施保障措施82第十一章 项目经济效益83一、 经济评价财务测算83营业收入、税金及附加和增值税估算表83综合总成本费用估算表84固定资产折旧费估算表85无形资产和其他资产摊销估算表86利润及利润分配表87二、 项目盈利能力分析88项目投资现金流量表9

4、0三、 偿债能力分析91借款还本付息计划表92第十二章 投资方案94一、 投资估算的依据和说明94二、 建设投资估算95建设投资估算表99三、 建设期利息99建设期利息估算表99固定资产投资估算表100四、 流动资金101流动资金估算表102五、 项目总投资103总投资及构成一览表103六、 资金筹措与投资计划104项目投资计划与资金筹措一览表104第十三章 总结评价说明106第十四章 附表108主要经济指标一览表108建设投资估算表109建设期利息估算表110固定资产投资估算表111流动资金估算表111总投资及构成一览表112项目投资计划与资金筹措一览表113营业收入、税金及附加和增值税估算

5、表114综合总成本费用估算表115固定资产折旧费估算表116无形资产和其他资产摊销估算表116利润及利润分配表117项目投资现金流量表118借款还本付息计划表119建筑工程投资一览表120项目实施进度计划一览表121主要设备购置一览表122能耗分析一览表122报告说明离子束刻蚀（IBE）是具有较强方向性等离子体的一种物理刻蚀机理。他能对小尺寸图型产生各向异性刻蚀，等离子体通常是由电感耦合RF源或微波源产生的。热灯丝发射快速运动的电子。氩原子通过扩散筛进入等离子体腔内。电磁场环绕等离子体腔，磁场使电子在圆形轨道上运动，这种循环运动是的电子与氩原子产生多次碰撞，从而产生大量的正氩离子，正氩离子被从

6、带格栅电极的等离子体源中引出并用一套校准的电极来形成高密度束流。离子束刻蚀主要用于金、铂、铜等较难刻蚀的材料。优势在于硅片可以倾斜以获取不同的侧壁形状。但也面临低选择比和低刻蚀速率的问题。xxx投资管理公司主要由xxx有限公司和xx有限责任公司共同出资成立。其中：xxx有限公司出资168.00万元，占xxx投资管理公司15%股份；xx有限责任公司出资952万元，占xxx投资管理公司85%股份。根据谨慎财务估算，项目总投资38692.68万元，其中：建设投资30666.83万元，占项目总投资的79.26%；建设期利息900.28万元，占项目总投资的2.33%；流动资金7125.57万元，占项目总

7、投资的18.42%。项目正常运营每年营业收入75800.00万元，综合总成本费用61765.80万元，净利润10262.31万元，财务内部收益率20.35%，财务净现值12849.01万元，全部投资回收期5.99年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本期项目技术上可行、经济上合理，投资方向正确，资本结构合理，技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的。第一章 筹建公司基本信息一、 公司名称xxx投资管理公司（以工商登记信息为准）二、 注册资本1120万元三、 注册地址台州xxx四、 主要经营范围经营范围：从事刻蚀设备相

8、关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）五、 主要股东xxx投资管理公司主要由xxx有限公司和xx有限责任公司发起成立。（一）xxx有限公司基本情况1、公司简介公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定，制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则，董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 当前，国内外经济发展形势依然错综复杂。从国际看，世界经济深度调整、复苏乏力，外部环境的不稳定不确定因素增加，中小企业外贸形势依然严

9、峻，出口增长放缓。从国内看，发展阶段的转变使经济发展进入新常态，经济增速从高速增长转向中高速增长，经济增长方式从规模速度型粗放增长转向质量效率型集约增长，经济增长动力从物质要素投入为主转向创新驱动为主。新常态对经济发展带来新挑战，企业遇到的困难和问题尤为突出。面对国际国内经济发展新环境，公司依然面临着较大的经营压力，资本、土地等要素成本持续维持高位。公司发展面临挑战的同时，也面临着重大机遇。随着改革的深化，新型工业化、城镇化、信息化、农业现代化的推进，以及“大众创业、万众创新”、中国制造2025、“互联网+”、“一带一路”等重大战略举措的加速实施，企业发展基本面向好的势头更加巩固。公司将把握国

10、内外发展形势，利用好国际国内两个市场、两种资源，抓住发展机遇，转变发展方式，提高发展质量，依靠创业创新开辟发展新路径，赢得发展主动权，实现发展新突破。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额13700.4310960.3410275.32负债总额6123.434898.744592.57股东权益合计7577.006061.605682.75公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入40794.1432635.3130595.60营业利润8534.956827.966401.21利润总额7334.68586

11、7.745501.01净利润5501.014290.793960.73归属于母公司所有者的净利润5501.014290.793960.73（二）xx有限责任公司基本情况1、公司简介公司秉承“以人为本、品质为本”的发展理念，倡导“诚信尊重”的企业情怀；坚持“品质营造未来，细节决定成败”为质量方针；以“真诚服务赢得市场，以优质品质谋求发展”的营销思路；以科学发展观纵观全局，争取实现行业领军、技术领先、产品领跑的发展目标。 公司自成立以来，坚持“品牌化、规模化、专业化”的发展道路。以人为本，强调服务，一直秉承“追求客户最大满意度”的原则。多年来公司坚持不懈推进战略转型和管理变革，实现了企业持续、健康

12、、快速发展。未来我司将继续以“客户第一，质量第一，信誉第一”为原则，在产品质量上精益求精，追求完美，对客户以诚相待，互动双赢。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额13700.4310960.3410275.32负债总额6123.434898.744592.57股东权益合计7577.006061.605682.75公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入40794.1432635.3130595.60营业利润8534.956827.966401.21利润总额7334.685867.745501.01净

13、利润5501.014290.793960.73归属于母公司所有者的净利润5501.014290.793960.73六、 项目概况（一）投资路径xxx投资管理公司主要从事关于成立刻蚀设备公司的投资建设与运营管理。（二）项目提出的理由刻蚀设备处于半导体产业链上游环节。半导体产业链的上游由为设计、制造和封测环节提供软件及知识产权、硬件设备、原材料等生产资料的核心产业组成。半导体产业链的中游可以分为半导体芯片设计环节、制造环节和封装测试环节。半导体产业链的下游为半导体终端产品以及其衍生的应用、系统等。分三步走到二三五年，把我市全面建成实业强、机制活、环境优、城市兴、百姓富、生态美的新时代民营经济高质量

14、发展强市，成为中国民营经济示范城市。新时代民营经济高质量发展强市与社会主义现代化先行市一脉相承，是台州社会主义现代化先行市的重要体现。展望二三五年，台州高质量发展迈上新台阶，基本实现新型工业化、信息化、城市化、农业农村现代化，创新能力显著增强，建成全球先进制造基地，形成具有国际竞争力的现代化经济体系；基本实现市域治理现代化，高水平建成体现融合群众智慧和人工智能的整体智治体系，建成法治政府、法治社会，建成法治中国、平安中国示范区；率先实现教育现代化、卫生健康现代化，文化软实力全面增强，高品质生活广泛享有，市民素质和社会文明达到新高度；共同富裕率先取得实质性重大进展，居民人均收入与人均生产总值之比

15、达到发达经济体水平，建成现代化公共服务体系；率先建成美丽中国样板城市，实现人与自然和谐共生的现代化，广泛形成绿色生产生活方式。（三）项目选址项目选址位于xx（以选址意见书为准），占地面积约77.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。（四）生产规模项目建成后，形成年产xxx套刻蚀设备的生产能力。（五）建设规模项目建筑面积85539.00，其中：生产工程62184.17，仓储工程11147.07，行政办公及生活服务设施9501.38，公共工程2706.38。（六）项目投资根据谨慎财务估算，项目总投资38692.68万元，其中

16、：建设投资30666.83万元，占项目总投资的79.26%；建设期利息900.28万元，占项目总投资的2.33%；流动资金7125.57万元，占项目总投资的18.42%。（七）经济效益（正常经营年份）1、营业收入（SP）：75800.00万元。2、综合总成本费用（TC）：61765.80万元。3、净利润（NP）：10262.31万元。4、全部投资回收期（Pt）：5.99年。5、财务内部收益率：20.35%。6、财务净现值：12849.01万元。（八）项目进度规划项目建设期限规划24个月。（九）项目综合评价此项目建设条件良好，可利用当地丰富的水、电资源以及便利的生产、生活辅助设施，项目投资省、见

17、效快；此项目贯彻“先进适用、稳妥可靠、经济合理、低耗优质”的原则，技术先进，成熟可靠，投产后可保证达到预定的设计目标。第二章 公司筹建方案一、 公司经营宗旨根据国家法律、法规及其他有关规定，依照诚实信用、勤勉尽责的原则，充分运用经济组织形式的优良运行机制，为公司股东谋求最大利益，取得更好的社会效益和经济效益。二、 公司的目标、主要职责（一）目标近期目标：深化企业改革，加快结构调整，优化资源配置，加强企业管理，建立现代企业制度；精干主业，分离辅业，增强企业市场竞争力，加快发展；提高企业经济效益，完善管理制度及运营网络。远期目标：探索模式创新、制度创新、管理创新的产业发展新思路。坚持发展自主品牌，

18、提升企业核心竞争力。此外，面向国际、国内两个市场，优化资源配置，实施多元化战略，向产业集团化发展，力争利用3-5年的时间把公司建设成具有先进管理水平和较强市场竞争实力的大型企业集团。（二）主要职责1、执行国家法律、法规和产业政策，在国家宏观调控和行业监管下，以市场需求为导向，依法自主经营。2、根据国家和地方产业政策、刻蚀设备行业发展规划和市场需求，制定并组织实施公司的发展战略、中长期发展规划、年度计划和重大经营决策。3、深化企业改革，加快结构调整，转换企业经营机制，建立现代企业制度，强化内部管理，促进企业可持续发展。4、指导和加强企业思想政治工作和精神文明建设，统一管理公司的名称、商标、商誉等

19、无形资产，搞好公司企业文化建设。5、在保证股东企业合法权益和自身发展需要的前提下，公司可依照公司法等有关规定，集中资产收益，用于再投入和结构调整。三、 公司组建方式xxx投资管理公司主要由xxx有限公司和xx有限责任公司共同出资成立。其中：xxx有限公司出资168.00万元，占xxx投资管理公司15%股份；xx有限责任公司出资952万元，占xxx投资管理公司85%股份。四、 公司管理体制xxx投资管理公司实行董事会领导下的总经理负责制，各部门按其规定的职能范围，履行各自的管理服务职能，而且直接对总经理负责；公司建立完善的营销、供应、生产和品质管理体系，确立各部门相应的经济责任目标，加强产品质量

20、和定额目标管理，确保公司生产经营正常、有效、稳定、安全、持续运行，有力促进企业的高效、健康、快速发展。总经理的主要职责如下：1、全面领导企业的日常工作；对企业的产品质量负责；向本公司职工传达满足顾客和法律法规要求的重要性；2、制定并正式批准颁布本公司的质量方针和质量目标，采取有效措施，保证各级人员理解质量方针并坚持贯彻执行；3、负责策划、建立本公司的质量管理体系，批准发布本公司的质量手册；4、明确所有与质量有关的职能部门和人员的职责权限和相互关系；5、确保质量管理体系运行所必要的资源配备；6、任命管理者代表，并为其有效开展工作提供支持；7、定期组织并主持对质量管理体系的管理评审，以确保其持续的

21、适宜性、充分性和有效性。五、 部门职责及权限（一）综合管理部1、协助管理者代表组织建立文件化质量体系，并使其有效运行和持续改进。2、协助管理者代表，组织内部质量管理体系审核。3、负责本公司文件（包括记录）的管理和控制。4、负责本公司员工培训的管理，制订并实施员工培训计划。5、参与识别并确定为实现产品符合性所需的工作环境，并对工作环境中与产品符合性有关的条件加以管理。（二）财务部1、参与制定本公司财务制度及相应的实施细则。2、参与本公司的工程项目可信性研究和项目评估中的财务分析工作。3、负责董事会及总经理所需的财务数据资料的整理编报。4、负责对财务工作有关的外部及政府部门，如税务局、财政局、银行

22、、会计事务所等联络、沟通工作。5、负责资金管理、调度。编制月、季、年度财务情况说明分析，向公司领导报告公司经营情况。6、负责销售统计、复核工作，每月负责编制销售应收款报表，并督促销售部及时催交楼款。负责销售楼款的收款工作，并及时送交银行。7、负责每月转账凭证的编制，汇总所有的记账凭证。8、负责公司总长及所有明细分类账的记账、结账、核对，每月5日前完成会计报表的编制，并及时清理应收、应付款项。9、协助出纳做好楼款的收款工作，并配合销售部门做好销售分析工作。10、负责公司全年的会计报表、帐薄装订及会计资料保管工作。11、负责银行财务管理，负责支票等有关结算凭证的购买、领用及保管，办理银行收付业务。

23、12、负责先进管理，审核收付原始凭证。13、负责编制银行收付凭证、现金收付凭证，登记银行存款及现金日记账，月末与银行对账单和对银行存款余额，并编制余额调节表。14、负责公司员工工资的发放工作，现金收付工作。（三）投资发展部1、调查、搜集、整理有关市场信息，并提出投资建议。2、拟定公司年度投资计划及中长期投资计划。3、负责投资项目的储备、筛选、投资项目的可行性研究工作。4、负责经董事会批准的投资项目的筹建工作。5、按照国家产业政策，负责公司产业结构、投资结构的调整。6、及时完成领导交办的其他事项。（四）销售部1、协助总经理制定和分解年度销售目标和销售成本控制指标，并负责具体落实。2、依据公司年度

24、销售指标，明确营销策略，制定营销计划和拓展销售网络，并对任务进行分解，策划组织实施销售工作，确保实现预期目标。3、负责收集市场信息，分析市场动向、销售动态、市场竞争发展状况等，并定期将信息报送商务发展部。4、负责按产品销售合同规定收款和催收，并将相关收款情况报送商务发展部。5、定期不定期走访客户，整理和归纳客户资料，掌握客户情况，进行有效的客户管理。6、制定并组织填写各类销售统计报表，并将相关数据及时报送商务发展部总经理。7、负责市场物资信息的收集和调查预测，建立起牢固可靠的物资供应网络，不断开辟和优化物资供应渠道。8、负责收集产品供应商信息，并对供应商进行质量、技术和供就能力进行评估，根据公

25、司需求计划，编制与之相配套的采购计划，并进行采购谈判和产品采购，保证产品供应及时，确保产品价格合理、质量符合要求。9、建立发运流程，设计最佳运输路线、运输工具，选择合格的运输商，严格按公司下达的发运成本预算进行有效管理，定期分析费用开支，查找超支、节支原因并实施控制。10、负责对部门员工进行业务素质、产品知识培训和考核等工作，不断培养、挖掘、引进销售人才，建设高素质的销售队伍。六、 核心人员介绍1、冯xx，中国国籍，1978年出生，本科学历，中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。2、任xx，中国国籍，1

26、977年出生，本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。3、韩xx，中国国籍，无永久境外居留权，1958年出生，本科学历，高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长；2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理；2019年3月至今任公司董事。4、胡xx，中国国籍，无永久境外居留权，1971年出生，本科学历，中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经

27、理、财务总监。5、卢xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。6、谭xx，中国国籍，无永久境外居留权，1961年出生，本科学历，高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。7、林xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历

28、任公司监事、销售部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。8、周xx，中国国籍，1976年出生，本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理；2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。七、 财务会计制度1、公司依照法律、行政法规和国家有关部门的规定，制定公司的财务会计制度。2、公司除法定的会计账簿外，将不另立会计账簿。公司的资产，不以任何个人名义开立账户存储。3、公司分配当年税后利润时，应当提取利润的10%列入公司法

29、定公积金。公司法定公积金累计额为公司注册资本的50%以上的，可以不再提取。公司的法定公积金不足以弥补以前年度亏损的，在依照前款规定提取法定公积金之前，应当先用当年利润弥补亏损。公司从税后利润中提取法定公积金后，经股东大会决议，还可以从税后利润中提取任意公积金。公司弥补亏损和提取公积金后所余税后利润，按照股东持有的股份比例分配，但本章程规定不按持股比例分配的除外。存在股东违规占用公司资金情况的，公司应当扣减该股东所分配的现金红利，以偿还其占用的资金。股东大会违反前款规定，在公司弥补亏损和提取法定公积金之前向股东分配利润的，股东必须将违反规定分配的利润退还公司。公司持有的本公司股份不参与分配利润。

30、4、公司的公积金用于弥补公司的亏损、扩大公司生产经营或者转为增加公司资本。但是，资本公积金将不用于弥补公司的亏损。法定公积金转为资本时，所留存的该项公积金将不少于转增前公司注册资本的25%。5、公司股东大会对利润分配方案作出决议后，公司董事会须在股东大会召开后2个月内完成股利（或股份）的派发事项。如股东存在违规占用公司资金情形的，公司在利润分配时，应当先从该股东应分配的现金红利中扣减其占用的资金。6、公司利润分配政策为：（1）利润分配的原则公司实施积极的利润分配政策，重视对投资者的合理投资回报，并保持连续性和稳定性。（2）利润分配的形式公司采取现金分配形式。在符合条件的前提下，公司应优先采取现

31、金方式分配股利。公司一般情况下进行年度利润分配，但在有条件的情况下，公司董事会可以根据公司的资金需求状况提议公司进行中期现金分配。（3）现金分红的具体条件和比例在当年盈利的条件下，如无重大投资计划或重大现金支出等事项发生，公司每年以现金方式分配的利润应不低于当年实现的可分配利润的10%，且连续三年以现金方式累计分配的利润不少于该三年实现的年均可分配利润的30%。公司董事会在制定以现金形式分配股利的方案时，应当综合考虑公司所处行业特点、发展阶段、自身经营模式、盈利水平等因素在当年实现的可供分配利润的20%-80%的范围内确定现金分红在本次利润分配中所占比例。独立董事应针对已制定的现金分红方案发表

32、明确意见。7、公司利润分配决策机制与程序为：公司当年盈利且符合实施现金分红条件但公司董事会未做出现金利润分配方案的，应在当年的定期报告中披露未进行现金分红的原因以及未用于现金分红的资金留存公司的用途，独立董事应该对此发表明确意见。第三章 市场预测一、 反应离子刻蚀反应离子刻蚀（RIE）是一种采用化学反应和物理离子轰击去除硅片表面材料的技术，是当前常用技术路径，属于物理和化学混合刻蚀。在传统的反应离子刻蚀机中，进入反应室的气体会被分解电离为等离子体，等离子体由反应正离子、自由基、反应原子等组成。反应正离子会轰击硅片表面形成物理刻蚀，同时被轰击的硅片表面化学活性被提高，之后硅片会与自由基和反应原子

33、形成化学刻蚀。这个过程中由于离子轰击带有方向性，RIE技术具有较好的各向异性。二、 离子束刻蚀离子束刻蚀（IBE）是具有较强方向性等离子体的一种物理刻蚀机理。他能对小尺寸图型产生各向异性刻蚀，等离子体通常是由电感耦合RF源或微波源产生的。热灯丝发射快速运动的电子。氩原子通过扩散筛进入等离子体腔内。电磁场环绕等离子体腔，磁场使电子在圆形轨道上运动，这种循环运动是的电子与氩原子产生多次碰撞，从而产生大量的正氩离子，正氩离子被从带格栅电极的等离子体源中引出并用一套校准的电极来形成高密度束流。离子束刻蚀主要用于金、铂、铜等较难刻蚀的材料。优势在于硅片可以倾斜以获取不同的侧壁形状。但也面临低选择比和低刻

34、蚀速率的问题。三、 干法刻蚀是芯片制造的主流技术刻蚀设备处于半导体产业链上游环节。半导体产业链的上游由为设计、制造和封测环节提供软件及知识产权、硬件设备、原材料等生产资料的核心产业组成。半导体产业链的中游可以分为半导体芯片设计环节、制造环节和封装测试环节。半导体产业链的下游为半导体终端产品以及其衍生的应用、系统等。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确的复制掩模图形。刻蚀是指使用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，并保证有图形的光刻胶在刻蚀中不受到腐蚀源显著的侵蚀。常用来代表刻蚀效率的参数主要有：刻蚀速率、刻蚀剖面、刻蚀偏差和选择比等。刻蚀速率指刻蚀过程中去除硅片表面材料的速度

35、；刻蚀剖面指的是刻蚀图形的侧壁形状，通常分为各向同性和各向异性剖面；刻蚀偏差指的是线宽或关键尺寸间距的变化，通常由横向钻蚀引起；选择比指的是同一刻蚀条件下两种材料刻蚀速率比，高选择比意味着不需要的材料会被刻除。刻蚀技术按工艺分类可分为湿法刻蚀和干法刻蚀，其中干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法，湿法刻蚀主要包括化学刻蚀和电解刻蚀。由于在湿法刻蚀技术中使用液体试剂，相对于干法刻蚀，容易导致边侧形成斜坡、要求冲洗或干燥等步骤。因此干法刻蚀被普遍应用于先进制程的小特征尺寸精细刻蚀中，并在刻蚀率、微粒损伤等方面具有较大的优势。目前先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理

36、的高密度等离子体刻蚀技术。一个等离子体刻蚀机的基本部件包括发生刻蚀反应的反应腔、产生等离子体气的射频电源、气体流量控制系统、去除生成物的真空系统。刻蚀中会用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅，氯和氟刻蚀铝，氯、氟和溴刻蚀硅，氧去除光刻胶。第四章 项目建设背景、必要性一、 原子层刻蚀为未来技术发展方向随着国际上高端量产芯片从14nm-10nm阶段向7nm、5nm甚至更小的方向发展，当前市场普遍使用的沉浸式光刻机受光波长的限制，关键尺寸无法满足要求，必须采用多重模板工艺，利用刻蚀工艺实现更小的尺寸，使得刻蚀技术及相关设备的重要性进一步提升。制程升级背景下，刻蚀次数显著增加。随着半导体制程的不断

37、缩小，受光波长限制，关键尺寸无法满足要求，必须采用多重模板工艺，重复多次薄膜沉积和刻蚀工序以实现更小的线宽，使得薄膜沉积和刻蚀次数显著增加以及刻蚀设备在晶圆产线中价值比率不断上升，其中20纳米工艺需要的刻蚀步骤约为50次，而10纳米工艺和7纳米工艺所需刻蚀步骤则超过100次。以硅片上的原子层刻蚀为例，首先，氯气被导入刻蚀腔，氯气分子吸附于硅材料的表面，形成一个氯化层。这一步改性步骤具有自限制性：表面一旦饱和，反应立即停止。紧接着清楚刻蚀腔中过量的氯气，并引入氩离子。使这些离子轰击硅片，物理性去除硅-氯反应后产生的氯化层，进而留下下层未经改性的硅表面。这种去除过程仍然依靠自限制性，在氯化层被全部

38、去除后，过程中止。以上两个步骤完成后，一层极薄的材料就能被精准的从硅片上去除。半导体设备市场快速发展，刻蚀设备价值量可观半导体设备市场快速发展，2022有望再创新高。随着2013年以来全球半导体行业的整体发展，半导体设备行业市场规模也实现快速增长。根据SEMI统计，2013年到2020年间，全球半导体设备销售额由320亿美元提升至712亿美元，年复合增速达到12.10%。2021年全球半导体设备市场规模突破1000亿美元，达到历史新高的1026亿美元，同比大增44。根据SEMI预测，2022年全球半导体设备市场有望再创新高，达到1140亿美元。目前全球半导体设备的市场主要由国外厂商高度垄断。根

39、据芯智讯发布的基于各公司财报统计数据显示，在未剔除FPD设备及相关服务收入、以2021年度中间汇率为基准进行计算，2021年全球前十五大半导体设备厂商中仅有一家ASMPacificTechnology来自中国香港，2021年销售额为17.39亿美元，位列榜单第14位。整体来看目前全球半导体设备市场主要被外国市场垄断。刻蚀设备投资占比不断，成为半导体产业第一大设备。先进集成电路大规模生产线的投资可达100亿美元，75%以上是半导体设备投资，其中最关键、最大宗的设备是等离子体刻蚀设备。根据SEMI的统计数据，2018年晶圆加工设备价值构成中，刻蚀、光刻、CVD设备占比分别为22.14%、21.30

40、%、16.48%，刻蚀设备成为半导体产业第一大设备。过去50年中，人类微观加工能力不断提升，从电子管计算机到现在的14纳米、7纳米器件，微观器件的基本单元面积缩小了一万亿倍。由于光的波长限制，20纳米以下微观结构的加工更多使用等离子体刻蚀和薄膜沉积的组合。集成电路芯片的制造工艺需要成百上千个步骤，其中等离子体刻蚀就需要几十到上百个步骤，是在制造过程中使用次数频多、加工过程非常复杂的重要加工技术。泛林半导体占据刻蚀设备半壁江山光刻机和刻蚀机作为产业的核心装备，占据了半导体设备投资中较大的份额。随着半导体技术进步中器件互连层数增多，介质刻蚀设备的使用量不断增大，泛林半导体利用其较低的设备成本和相对

41、简单的设计，逐渐在65nm、45nm设备市场超过TEL等企业，占据了全球大半个市场，成为行业龙头。根据Gartner的数据显示，目前全球刻蚀设备行业的龙头企业仍然为泛林半导体、东京电子和应用材料三家，从市占率情况来看，2020年三家企业的合计市场份额占到了全球刻蚀设备市场的90%以上，其中泛林半导体独占44.7%的市场份额。全球龙头持续投入，加强研发、外围并购维持竞争力。应用材料于2018年6月宣布成立材料工程技术推动中心（META中心），主要目标是加快客户获得新的芯片制造材料和工艺技术，从而在半导体性能、成本方面实现突破。泛林半导体依靠自身巨大的研发投入和强大的研发团队，自主研发核心技术，走

42、在半导体设备的技术前沿，开创多个行业标准，如其KIYO系列创造了业内最高生产力、选择比等多项记录，其ALTUSMaxE系列采用业界首款低氟钨ALD工艺，被视作钨原子层沉积的行业标杆。除此之外，泛林半导体首创ALE技术，实现了原子层级别的可变控制性和业内最高选择比。二、 等离子体刻蚀面临的问题随着当前先进芯片关键尺寸的不断减小以及FinFET与3DD等三维结构的出现，不同尺寸的结构在刻蚀中的速率差异将影响刻蚀速率，对于高深宽比的图形窗口来说，化学刻蚀剂难以进入，反应生成物难以排出。另外，薄膜堆栈一般由多层材料组成，不同材料的刻蚀速率不同，很多刻蚀工艺都要求具有极高的选择比。第三个问题在于当达到期

43、望深度之后，等离子体中的高能离子可能会导致硅片表面粗糙或底层材料损伤。干法刻蚀通常不能提供对下一层材料足够高的刻蚀选择比。在这种情况下，一个等离子体刻蚀机应装上一个终点检测系统，使得在造成最小的过刻蚀时停止刻蚀过程。当下一层材料正好露出来时，重点检测器会触发刻蚀机控制器而停止刻蚀。三、 高密度等离子体刻蚀在先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理的高密度等离子体刻蚀技术。根据产生等离子体方法的不同，等离子体刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀（CCP）、电感性等离子体刻蚀(ICP)、电子回旋加速震荡（ECR）和双等离子体源。电子回旋加速震荡（ECR）反应器是最早商用化的高密度

44、等离子体反应器之一，它是1984年前后日本日立公司最早研究的，第一次使用是在20世纪80年代初。它在现代硅片制造中仍然用于0.25微米及以下尺寸图形的刻蚀。ECR反应器的一个关键是磁场平行于反应剂的流动方向，这使自由电子由于磁力作用做螺旋形运动。增加了电子碰撞的可能性，从而产生高密度的等离子体。优点在于能产生高的各向异性刻蚀图形，缺点是设备复杂度较高。耦合等离子体刻蚀机包括电容耦合（CCP）与电感耦合（ICP），相比ECR结构简单且成本低。电容耦合等离子体刻蚀机（CCP）通过电容产生等离子体，而电感耦合等离子体刻蚀机（ICP）通过螺旋线圈产生等离子体。硅片基底为加装有低功率射频偏置发生器的电源

45、电极，用来控制轰击硅片表面离子的能量，从而使得整个装置能够分离控制离子的能量与浓度。电容性等离子体刻蚀（CCP）主要是以高能离子在较硬的介质材料上，刻蚀高深宽比的深孔、深沟等微观结构；而电感性等离子体刻蚀（ICP）主要是以较低的离子能量和极均匀的离子浓度刻蚀较软的和较薄的材料。这两种刻蚀设备涵盖了主要的刻蚀应用。双等离子体源刻蚀机主要由源功率单元、上腔体、下腔体和可移动电极四部分组成。这一系统中用到了两个RF功率源。位于上部的射频功率源通过电感线圈将能量传递给等离子体从而增加离子密度，但是离子浓度增加的同时离子能量也随之增加。下部加装的偏置射频电源通过电容结构能够降低轰击在硅表面离子的能量而不

46、影响离子浓度，从而能够更好地控制刻蚀速率与选择比。四、 加快数字化赋能现代产业，打造先进制造新标杆以建设世界级制造基地和突破万亿级工业体量为目标，深入实施工业4.0行动计划，以变革思维、国际标准，突出数字化引领、撬动、赋能作用，推动台州制造向台州智造跃升。（一）深入推进数字化转型实施数字经济五年倍增计划，深度融入全省国家数字经济创新发展试验区建设。加快建设一批重量级数字经济产业平台和示范基地，形成一批具有较强竞争力的产业数字化集群，建成全省数字经济新增长极、传统产业数字化转型示范区。全面推进工业、农业、服务业数字化转型，开展小微企业“数字化转型伙伴行动”，打造小微企业“上云用数赋智”服务中心。建设工业互联网标识解析二级节点城市，推进“1812”工业互联网平台体系建设，构建面向中小微企业、辐射浙东南的5G工业互联网平台体系。推广网络化协同制造、共享制造、个性化定制、服务型制造等智能制造新模式，培育发展未来工厂。完善数据产权保护机制，深化数据开放共享，培育数据要素市场，保障数据安全。（二）全面提升产业链供应链现代化水平推进产业链“两化”集成改革，高标准实施产业基础再造和产业链提升工程，做优做强自主可控、安全高效的标志性产业链，部分具有标志性的基础零部件、基础工艺、关键基础材料等实现工程化、产业化突破。更好发挥政府产业基金引领撬动作用，持