金属靶材项目资金申请报告.docx

《金属靶材项目资金申请报告.docx》由会员分享，可在线阅读，更多相关《金属靶材项目资金申请报告.docx（94页珍藏版）》请在得力文库 - 分享文档赚钱的网站上搜索。

1、泓域咨询/金属靶材项目资金申请报告金属靶材项目资金申请报告规划设计/投资分析/产业运营承诺书申请人郑重承诺如下：“金属靶材项目”已按国家法律和政策的要求办理相关手续，报告内容及附件资料准确、真实、有效，不存在虚假申请、分拆、重复申请获得其他财政资金支持的情况。如有弄虚作假、隐瞒真实情况的行为，将愿意承担相关法律法规的处罚以及由此导致的所有后果。公司法人代表签字：xxx投资公司（盖章）xxx年xx月xx日项目概要高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的

2、指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的

3、晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。该金属靶材项目计划总投资9573.00万元，其中：固定资产投资7681.19万元，占项目总投资的80.24%；流动资金1891.81万元，占项目总投资的19.76%。达产年营业收入16117.00万

4、元，总成本费用12890.19万元，税金及附加157.73万元，利润总额3226.81万元，利税总额3829.62万元，税后净利润2420.11万元，达产年纳税总额1409.51万元；达产年投资利润率33.71%，投资利税率40.00%，投资回报率25.28%，全部投资回收期5.46年，提供就业职位245个。提供初步了解项目建设区域范围、面积、工程地质状况、外围基础设施等条件，对项目建设条件进行分析，提出项目工程建设方案，内容包括：场址选择、总图布置、土建工程、辅助工程、配套公用工程、环境保护工程及安全卫生、消防工程等。报告主要内容：项目承担单位基本情况、项目技术工艺特点及优势、项目建设主要内

5、容和规模、项目建设地点、工程方案、产品工艺路线与技术特点、设备选型、总平面布置与运输、环境保护、职业安全卫生、消防与节能、项目实施进度、项目投资与资金来源、财务评价等。第一章 项目承办单位基本情况一、公司概况公司是全球领先的产品提供商。我们在续为客户创造价值，坚持围绕客户需求持续创新，加大基础研究投入，厚积薄发，合作共赢。公司自成立以来，坚持“品牌化、规模化、专业化”的发展道路。以人为本，强调服务，一直秉承“追求客户最大满意度”的原则。多年来公司坚持不懈推进战略转型和管理变革，实现了企业持续、健康、快速发展。未来我司将继续以“客户第一，质量第一，信誉第一”为原则，在产品质量上精益求精，追求完美

6、，对客户以诚相待，互动双赢。我们将不断超越自我，继续为广大客户提供功能齐全，质优价廉的产品和服务，打造一个让客户满意，对员工关爱，对社会负责的创新型企业形象！在本着“质量第一，信誉至上”的经营宗旨，高瞻远瞩的经营方针，不断创新，全面提升产品品牌特色及服务内涵，强化公司形象，立志成为全国知名的产品供应商。公司不断加强新产品的研制开发力度，通过开发新品种、优化产品结构来增强市场竞争力，产品畅销全国各地，深受广大客户的好评；通过多年经验积累，建立了稳定的原料供给和产品销售网络；公司不断强化和提高企业管理水平，健全质量管理和质量保证体系，严格按照ISO9000标准组织生产，并坚持以质量求效益的发展之路

7、，不断强化和提高企业管理水平，实现企业发展速度与产品结构、质量、效益相统一，坚持在结构调整中发展总量的原则，走可持续发展的新型工业化道路。公司以生产运行部、规划发展部等专业技术人员为主体，依托各单位生产技术人员，组建了技术研发团队。研发团队现有核心技术骨干 十余人，均有丰富的科研工作经验及实践经验。随着公司近年来的快速发展，业务规模及人员规模迅速扩张，企业规模将得到进一步提升，产线的自动化，信息化水平将进一步提升，这需要公司管理流程不断调整改进，公司管理团队管理水平不断提升。二、所属行业基本情况溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展

8、过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。三、公司

9、经济效益分析上一年度，xxx（集团）有限公司实现营业收入12315.34万元，同比增长10.89%（1209.22万元）。其中，主营业业务金属靶材生产及销售收入为10405.11万元，占营业总收入的84.49%。上年度主要经济指标序号项目第一季度第二季度第三季度第四季度合计1营业收入2586.223448.303201.993078.8412315.342主营业务收入2185.072913.432705.332601.2810405.112.1金属靶材(A)721.07961.43892.76858.423433.692.2金属靶材(B)502.57670.09622.23598.292393

10、.182.3金属靶材(C)371.46495.28459.91442.221768.872.4金属靶材(D)262.21349.61324.64312.151248.612.5金属靶材(E)174.81233.07216.43208.10832.412.6金属靶材(F)109.25145.67135.27130.06520.262.7金属靶材(.)43.7058.2754.1152.03208.103其他业务收入401.15534.86496.66477.561910.23根据初步统计测算，公司实现利润总额2466.66万元，较去年同期相比增长595.47万元，增长率31.82%；实现净利润1

11、849.99万元，较去年同期相比增长292.45万元，增长率18.78%。上年度主要经济指标项目单位指标完成营业收入万元12315.34完成主营业务收入万元10405.11主营业务收入占比84.49%营业收入增长率（同比）10.89%营业收入增长量（同比）万元1209.22利润总额万元2466.66利润总额增长率31.82%利润总额增长量万元595.47净利润万元1849.99净利润增长率18.78%净利润增长量万元292.45投资利润率37.08%投资回报率27.81%财务内部收益率25.68%企业总资产万元17876.39流动资产总额占比万元36.47%流动资产总额万元6519.41资产负

12、债率38.79%第二章 项目技术工艺特点及优势一、技术方案（一）技术方案选用方向1、对于生产技术方案的选用，遵循“自动控制、安全可靠、运行稳定、节省投资、综合利用资源”的原则，选用当前较先进的集散型控制系统，由计算机统一控制整个生产线的各项工艺参数，使产品质量稳定在高水平上，同时可降低物料的消耗。严格按行业规范要求组织生产经营活动，有效控制产品质量，为广大顾客提供优质的产品和良好的服务。2、遵循“高起点、优质量、专业化、经济规模”的建设原则。积极采用新技术、新工艺和高效率专用设备，使用高质量的原辅材料，稳定和提高产品质量，制造高附加值的产品，不断提高企业的市场竞争能力。3、在工艺设备的配置上，

13、依据节能的原则，选用新型节能型设备，根据有利于环境保护的原则，优先选用环境保护型设备，满足项目所制订的产品方案要求，优选具有国际先进水平的生产、试验及配套等设备，充分显现龙头企业专业化水平，选择高效、合理的生产和物流方式。4、生产工艺设计要满足规模化生产要求，注重生产工艺的总体设计，工艺布局采用最佳物流模式，最有效的仓储模式，最短的物流过程，最便捷的物资流向。5、根据该项目的产品方案，所选用的工艺流程能够满足产品制造的要求，同时，加强员工技术培训，严格质量管理，按照工艺流程技术要求进行操作，提高产品合格率，努力追求产品的“零缺陷”，以关键生产工序为质量控制点，确保该项目产品质量。6、在项目建设

14、和实施过程中，认真贯彻执行环境保护和安全生产的“三同时”原则，注重环境保护、职业安全卫生、消防及节能等法律法规和各项措施的贯彻落实。（三）工艺技术方案选用原则1、在基础设施建设和工业生产过程中，应全面实施清洁生产，尽可能降低总的物耗、水耗和能源消费，通过物料替代、工艺革新、减少有毒有害物质的使用和排放，在建筑材料、能源使用、产品和服务过程中，鼓励利用可再生资源和可重复利用资源。2、遵循“高起点、优质量、专业化、经济规模”的建设原则，积极采用新技术、新工艺和高效率专用设备，使用高质量的原辅材料，稳定和提高产品质量，制造高附加值的产品，不断提高企业的市场竞争力。（四）工艺技术方案要求1、对于生产技

15、术方案的选用，遵循“自动控制、安全可靠、运行稳定、节省投资、综合利用资源”的原则，选用当前较先进的集散型控制系统，控制整个生产线的各项工艺参数，使产品质量稳定在高水平上，同时可降低物料的消耗；严格按照电气机械和器材制造行业规范要求组织生产经营活动，有效控制产品质量，为广大顾客提供优质的产品和良好的服务。2、建立完善柔性生产模式；本期工程项目产品具有客户需求多样化、产品个性差异化的特点，因此，产品规格品种多样，单批生产数量较小，多品种、小批量的制造特点直接影响生产效率、生产成本及交付周期；益而益（集团）有限公司将建设先进的柔性制造生产线，并将柔性制造技术广泛应用到产品制造各个环节，可以在照顾到客

16、户个性化要求的同时不牺牲生产规模优势和质量控制水平，同时，降低故障率、提高性价比，使产品性能和质量达到国内领先、国际先进水平。二、项目工艺技术设计方案（一）技术来源及先进性说明项目技术来源为公司的自有技术，该技术达到国内先进水平。（二）项目技术优势分析本期工程项目采用国内先进的技术，该技术具有资金占用少、生产效率高、资源消耗低、劳动强度小的特点，其技术特性属于技术密集型，该技术具备以下优势：1、技术含量和自动化水平较高，处于国内先进水平，在产品质量水平上相对其他生产技术性能费用比优越，结构合理、占地面积小、功能齐全、运行费用低、使用寿命长；在工艺水平上该技术能够保证产品质量高稳定性、提高资源利

17、用率和节能降耗水平；根据初步测算，利用该技术生产产品，可提高原料利用率和用电效率，在装备水平上，该技术使用的设备自动控制程度和性能可靠性相对较高。2、本期工程项目采用的技术与国内资源条件适应，具有良好的技术适应性；该技术工艺路线可以适应国内主要原材料特性，技术工艺路线简洁，有利于流程控制和设备操作，工艺技术已经被国内生产实践检验，证明技术成熟，技术支援条件良好，具有较强的可靠性。3、技术设备投资和产品生产成本低，具有较强的经济合理性；本期工程项目采用本技术方案建设其主要设备多数可按通用标准在国内采购。4、节能设施先进并可进行多规格产品转换，项目运行成本较低，应变市场能力很强。第三章 背景及必要

18、性一、金属靶材项目背景分析溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。在靶材制造的过程中，需要经历粉末冶炼、粉末屁合、压制成型、气氛烧结、塑性加工、热处理、超声探伤、机械加工、水切割、机械加工、金属化、绑定、超声测试、超声清冼、栓验出货，共计15道工序。粉末冶金铸造法是溅射靶材的另一种重要制造工艺。对于钨钛靶这类由两种熔点差别较大的金属组成的合金靶材则会选择粉末烧结工艺。粉末冶金工艺一般选用高

19、纯、超细粉末作为原料，并使用热等静压方法成型，而热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。而热等静压工艺具有容易获得均匀细晶组织的优点。溅射靶材行业的核心价值在于通过熔炼、提纯、加工和热处理等工艺对靶材的成分、微观组织结构、致密度和杂质等系列指标进行严格的控制，以满足溅射镀膜过程要求。靶材的质量水平会直接影响到沉积所得薄膜的均匀性和一致性，因此溅射靶材对纯度、致密度和组织均匀性等特性均有严格要求。靶材纯度方面，不同的下游应用要求会有所不同，超大规模集成电路芯片对溅射靶材的金属纯度的要求最高，通常要达到99.9995%（5N5）以上，平板显示器和太阳能电池等领域对金属纯度的要求略低，要求分别为

20、99.999%（5N）和99.995%（4N5）。杂质会对沉积薄膜的构成污染，因此靶材的杂质含量也会有严格的标准要求。靶材的致密度与气孔的数量成反比，而气孔中的杂质气体在溅射过程中是污染源，因此靶材的致密度会对溅射的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象，以及薄膜的电学和光学性能有显著影响。靶材的成分，组织和晶粒度大小主要影响沉积薄膜的均匀性和质量的稳定性，成分和组织均匀性以及晶粒度大小等指标对于靶材的质量控制也是重中之重。独立而成熟的生产制造技术和研发能力是高纯溅射靶材企业的立身之本。高纯溅射靶材行业以冶金提纯、塑形加工、热处理和机械加工等制造工艺过程为基础，信息技术等领域需求为导向，属于典型

21、的技术密集型产业。半导体芯片，平板显示和信息储存等下游信息产业的产品更新快，技术日新月异，靶材制造企业作为上游关键材料的供应商也必须要求有充分的研发能力来同步更新其产品和技术。在平板显示领域与靶材需求对应的下游产品以液晶显示面板为主。根据技术特点不同，平板显示器可分为液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、有机发光二极管显示（OLED）、场致发光显示器（EL）和场发射显示器（FED）等。OLED由于供货不足和价格高企等原因，目前主要应用于部分小尺寸显示领域；PDP主要应用于部分电视和大屏幕显示器领域；相比之下，LCD由于在性价比、分辨率、耗电量、屏幕尺寸多样化等关键指标上占据显著优势，是

22、当前平板显示领域主导技术和产品，占据了平板显示90%以上的市场份额。因此，主要通过对全球和中国液晶显示面板出货量和出货面积进行分析以预测平板显示用靶材市场容量的增长趋势。国外企业经过几十年的发展和技术积累，在品牌、技术、产品质量、规模和客户资源等各方面均有深厚的基础。在上游，国外这些跨国公司有与之配套的高纯金属原料供应优势，在下游应用领域有集中的客户资源优势，在靶材制造环节有技术先发优势和规模优势，因此在未来一定时间内美国和日本这些公司在溅射靶材领域的垄断地位仍是国内溅射靶材企业必须应对的常态在平板显示大尺寸靶材生产领域，国外有成熟的技术能成产出宽1200毫米，长3000毫米的单块靶材。隆化节

23、能的产品距离国外还有不小的差距。同时，在产能上，日本的装备月产量可达30吨至50吨，我国国产装备年产量只有30吨。进口一台设备价格要花一千万元，且核心技术完全把控在国外设备厂，这是我国国产靶材目前还很难突破的领域。二、鼓励中小企业发展中小企业发展，既是改革开放的重要成果，也是改革开放的重要力量。量大面广、机制灵活的中小企业参与竞争，形成了充满活力的市场环境，为充分发挥市场在配置资源中的基础性作用创造了条件。中小企业贴近市场，活跃在市场竞争最激烈的领域，与市场有着本质的联系，是构建市场经济体制的微观基础，它的发展为社会主义市场经济创造了多元竞争、充满活力的环境。实践证明，中小企业发展好的地区，往

24、往也是人民生活较为富裕的地区，也是率先实现小康的地区。发展中小企业，使广大人民群众从发展中得到实惠，过上更加富裕的生活，有利于促进社会的和谐安定。大力发展中小企业，是我国一项长期的战略任务，我国高度重视中小企业发展问题，中央领导多次就中小企业发展问题作出重要指示和批示。近年来，国务院制定了一系列促进中小企业发展的政策措施，各地区、各部门认真贯彻落实，并结合本地区、本部门实际出台了一系列配套办法和实施意见。对中小企业财税扶持力度不断加大，中小企业发展环境进一步改善，中小企业融资难问题有所缓解，公共服务体系得到加强。在各级政府和各项政策支持下，经过中小企业自身的努力，近年来中小企业稳步发展，在国民

25、经济和社会发展中的地位作用进一步增强。要激发中小企业创业创新活力，就是要鼓励创办小企业，开发新岗位，以创业促就业，力争使中小企业数量持续增加，向社会提供更多的就业机会和岗位。要最大限度减少对微观事物的管理，市场机制能有效调节的经济活动一律取消审批，对保留的行政审批事项规范管理、提高效率；直接面对基层、量大面广、属于能交由市场解决或交由地方管理更方便有效的经济社会事项，一律下放地方和基层管理。同时，注重放管结合，切实防止审批事项边减边增、明减暗增现象发生。进一步加大商事制度改革的政策宣传。尽快建立与商事制度改革相配套的后续市场监管体系，加强部门间的沟通衔接，明确监管责任，规范监管行为。三、宏观经

26、济形势分析全球经济放缓、中美经贸关系不确定性等将拖累我国出口，但进博会的成功举办有望改善我国贸易结构进而对出口形成支撑。整体看，我国工业企业出口增速可能会继续小幅放缓。稳中有进的宏观经济环境将为企业效益持续改善提供坚实支撑，工业品价格涨幅的趋缓将带动工业企业效益增速稳中趋缓。宏观经济保持稳中有进，将对工业企业生产形成带动作用，有助于提升市场活力、增强企业创新动力，为企业效益改善奠定坚实基础；规范降低涉企保证金和社保费率等一系列减费降税政策的落实，将提升企业盈利能力；去产能政策已取得阶段性成果，产品供需有望实现新的均衡，工业生产者出厂价格将趋于平稳。四、金属靶材项目建设必要性分析溅射工艺属于物理

27、气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。靶材主要应用在半导体、平面显示、太阳能电池等领域。其主要性能表现在纯度、杂质含量、密度、均匀性、尺寸等方面。因应用领域不同靶材对金属材料的选择和性能要求存在着一定的差异，通

28、常来说半导体靶材纯度最高，制作工艺最为复杂，平板材料次之，太阳能电池材料标准最低。半导体靶材是晶圆制造重要的原材料，主要以铜靶、铝靶、钛靶和钽靶等为主。半导体芯片行业历经半个世纪，目前仍遵循着“摩尔定律”向前发展。在晶圆制造方面，芯片尺寸不断减小（目前主流28纳米以下），同时晶圆尺寸不断增大以进一步降低成本（目前12英寸是主流）。在集成电路领域主要应用在晶圆制造和先进封装过程中。为了满足半导体芯片高精度、小尺寸的需求，芯片制造对溅射靶材纯度要求很高，通常需达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上，这在各下游应用中要求是最高的，价格也最为昂贵。平板显示镀膜用溅射靶材主要品种有

29、：铝、铝合金、钼、铬、铜、铜合金、硅、钛、铌和氧化铟锡（ITO）等。平面显示面板的生产工艺中，屏显玻璃基板要经多次溅射镀膜形成ITO玻璃，然后再经过镀膜、加工组装用于生产LCD面板、PDP面板及OLED面板等。对于触控屏，则还需将ITO玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。此外，为了实现平板显示产品的抗反射、消影等功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。平面显示行业一般要求靶材纯度达99.999%（5N）以上。太阳能电池用溅射靶材主要品种有铝、铜、钼、铬、氧化铟锡（ITO）、氧化铝锌（AZO）等。太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池。目前，PVD镀

30、膜工艺主要应用于制备薄膜太阳能电池，靶材纯度一般要求4N以上。其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。溅射靶材在制备技术上按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类。在靶材制备过程中，在严格控制纯度、致密度、晶粒度、结晶取向的基础上，通过选择不同的热处理工艺及后续成型加工过程以确保靶材的质量。熔融铸造法是制备磁控溅射靶材的基本方法之一，常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。高纯金属如Al、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好的塑性，直接在原有铸锭基础上进一步熔铸后，进行锻造、轧制和热处理等热机械化

31、处理技术进行微观组织控制和坯料成型。与粉末冶金法相比，熔融铸造法生产的靶材产品杂质含量低，致密度高，但材料内部存在一定孔隙率，需后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。对于难熔金属靶材、熔点和密度相差较大的多种金属合金靶材、无机非金属靶材、复合靶材的制备而言，熔融铸造法无能为力，需要采用粉末冶金法。粉末冶金工艺首先进行粉体材料的预处理，包括采用粒度和形貌合适的高纯金属粉末进行均匀化混合、造粒等，再选择合适的烧结工艺，包括冷等静压（CIP）、热压(HP)、热等静压(HIP)及无压烧结成型等。其关键在于：选择高纯、超细粉末作为原料；选择能实现快速致密化的成形烧结技术，以保证靶材的低孔隙率，并控制晶粒度

32、；制备过程严格控制杂质元素的引入。粉末冶金工艺还具有容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等优点。五、金属靶材行业分析高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶向控制是产品研发主要攻克的方向。

33、溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理

34、工艺加以控制。金属精密加工和外形控制直接影响下游客户的使用效果。用于靶材溅射的机台十分精密，对溅射靶材的尺寸要求很高，这对靶材厂商的金属加工精度和加工质量提出了很高的要求，如表面平整度等。例如，靶材粗糙化处理可使靶材表面布满丰富的凸起尖端，这些凸起尖端的电势将大大提高，从而击穿介质放电，但过大的凸起对于溅射的质量和稳定性是不利的。随着薄膜技术的发展、芯片性能的提升，对配套溅射靶材在纯度、微观结构、可靠性等方面提出了越来越高的要求。集成电路产业60年代起源于美国，80年代行业重心转向日本，90年代又转向韩国、台湾。因而在靶材生产方面，日、美靶材企业得以与Intel、IBM等微电子巨头一起调试工艺

35、，推进薄膜制备技术发展，具有很大的技术和品牌优势。与之相比，虽然近年来半导体产业加速向我国转移，国内半导体产业正在迎来黄金期，但总体而言我国半导体行业尤其是中上游的电子化学品、化学材料产业仍处于起步阶段。而我国一些靶材生产商是冶金材料企业，对半导体企业等使用方的实际需求很难做到“量体裁衣”。这也要求国内靶材厂商对客户实际需要进行深刻、透彻的研究，与使用方一起完善工艺。随着国内下游半导体、平面显示产业的发展，电子化学品需求量巨大，进口替代空间广阔，国内靶材企业有很大的发展空间。溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的

36、关键环节。化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素，高纯金属原材料是靶材生产制造的基础。高纯金属提纯分为化学提纯和物理提纯，在实际应用中，通常使用多种物理、化学手段联合提纯实现高纯材料的制备。我国虽然拥有丰富的有色金属矿产资源，但我国高纯金属制备技术与国外相比仍存在一定差距，高纯金属有较大比重需从国外进口。全球范围内，高纯金属产业集中度较高，美、日等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在整个产业链中居于十分有利的地位，具有较强的议价能力。高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，集成电路产业是目前高纯溅射靶材的主要应用领域之一。受困于2008年爆发的金融危机，全球半导体市场2009年陷入全面

37、衰退。此后，全球半导体市场迅速反弹。自2011年起，全球半导体市场进入平稳增长期。半导体材料的市场规模也随着整个半导体行业市场规模的增长而增长。国内高纯金属产业在靶材上游率先取得突破。2004年以前，我国99%以上的高纯铝只能从美国和日本进口。近年来随着技术的发展，我国也出现了一些高纯铝生产企业，有新疆众和、包头铝业、霍煤鸿骏、山西关铝、宜都东阳光铝、中铝贵州、神火铝业等，与美、日企业的差距正在缩小。2016年我国国内高纯铝产量达11.8万吨，生产的高纯铝甚至部分返销国外。在市场需求和政策鼓励下，国内半导体市场保持着平稳较快发展，国内半导体材料产业、靶材产业规模也日益扩大，其增速高于全球增速，

38、在全球市场中所占份额逐渐提升。得益于中国大陆晶圆厂建设的迅猛势头，中国已经成为全球最具潜力的半导体材料新兴市场。2016年国内半导体用溅射靶材市场规模突破14亿元，全球半导体用溅射行业深度研究靶材市场规模突破12亿美元。我们预测，未来5年，国内高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%，总规模超过25亿元。国内靶材市场将在2020年翻倍。在全球处于规划或建设阶段、预计于2017年2020年间投产的62座半导体晶圆厂中，有26座设于中国，占全球总数的42%，仅2018年，中国大陆就会有13座晶圆厂建成投产。目前国内已量产的12寸晶圆厂共有10家，总产能56.9万片每月；而目前建设中的12寸晶圆

39、厂共有9家，总产能54万片/月。若上述在建产能投产，相当于国内晶圆产能增加95%，靶材市场需求也会相应大幅增加。国产半导体靶材的市场占比将会显著提升。随着国产溅射靶材的技术成熟，尤其是国产溅射靶材具备较高的性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向，我国溅射靶材的市场规模将进一步扩大，在全球市场中有望获得更多客户的认可，市场份额进一步提高。平板显示产业也是高纯溅射靶材的主要应用领域之一。平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、有机发光二极管显示器（OLED）等，以及在LCD基础上发展起来的触控（TP）显示产品。镀膜是现代平板显示产业的基础环节，几乎所有类型的平板显示器

40、件都会使用大量的镀膜材料来形成各类功能薄膜，其所使用的PVD镀膜材料主要为溅射靶材。柔性显示材料进一步扩大靶材的需求空间。膜材料是实现柔性的关键，而靶材是电子薄膜材料主要原材料。未来柔性OLED对薄膜的使用量会大幅增加，相应的靶材需求量就会大幅增加。2016年全球平面显示溅射靶材市场达到38亿美元，国内市场超过80亿元。2011年以来，随着国内外平板显示厂商纷纷在中国大陆建立生产基地以及政府政策导向和产业扶植下，我国平板显示产业迅速发展，全球平板显示产业重心逐渐向中国大陆转移，我国成为全球主要LCD面板生产大国，并相继形成了以京东方、华星光电、深天马等为代表的市场影响力较大的LCD面板本土品牌

41、。IHSMARKIT公司预计，到2018年中国将成为全球最大的平板显示器件供应国，全球市场占有率将达到35%。太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池，PVD工艺主要应用于薄膜太阳能电池中。晶体硅太阳能电池转化效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，占据了太阳能电池市场的主导地位。与晶体硅太阳能电池相比，薄膜太阳能电池材料用量大大减少，从而大幅降低了制造成本和产品价格，同时，薄膜太阳能电池还具有制造温度低、应用范围大等特点。21世纪以来，全球光伏产业迅速发展。近年来，随着国家对环境保护、节能减排方面的重视，我国太阳能光伏产业在全球太阳能光伏产业发展的带动下飞速发展。太阳能光伏产业

42、的快速发展也给太阳能电池用溅射靶材市场带来了巨大的成长空间，2015年全球太阳能电池用溅射靶材市场规模达18.5亿美元，比2014年增长21.7%。目前国内太阳能电池主要以硅片涂覆型太阳能电池为主，薄膜电池的产量较小，因此溅射靶材市场规模仍较小，2015年为7.5亿元。全球太阳能电池行业仍然处于产业上升阶段，随着国内薄膜电池生产线的投产，我国太阳能电池用溅射靶材市场将持续增长。六、金属靶材市场分析预测靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。高纯度溅射靶材主要应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDepositio

43、n，PVD）工艺。PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。为推动国内靶材产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带动传统产业改造和产品升级换代，我国制定了一系列靶材行业相关支持政策。靶材行业产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个靶材产业链中的关键环节。靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等，其中，半导体芯片行业用的金属靶材，主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的靶材。铜靶和钽靶通常配合起来使用。靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中，在靶材应用

44、领域中，半导体芯片对靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域。目前晶圆的制造正朝着更小的制程方向发展，铜导线工艺的应用量在逐步增大，因此，铜和钽靶材的需求将有望持续增长。铝靶和钛靶通常配合起来使用。目前，在汽车电子芯片等需要110nm以上技术节点来保证其稳定性和抗干扰性的领域，仍需大量使用铝、钛靶材。靶材在半导体材料中占比约为2.5-3%，由于半导体靶材市场与晶圆产量存在直接关系，中国大陆晶圆厂产能占全球比例在15

45、%左右，推算出2019年国内半导体用靶材市场约为10.3亿元。目前，全球的靶材制造行业，特别是高纯度的靶材市场，呈现寡头垄断格局，主要由几家美日大企业把持，如日本的三井矿业、日矿金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科，以及美国霍尼韦尔、普莱克斯等。目前，国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域，在半导体、平板显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头全面竞争。但是，依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策，以及产品价格优势，它们已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别细分领域抢占了部分国际大厂的市场空间。近年来，我国政府制定了一系列产业政策，如863计划、02专项基金等来加速溅射靶材供应的本土化进程

46、，推动国产靶材在多个应用领域实现从无到有的跨越。这些都从国家战略高度扶植并推动着溅射靶材产业的发展壮大。第四章 项目建设主要内容和规模（一）用地规模该项目总征地面积26079.70平方米（折合约39.10亩），其中：净用地面积26079.70平方米（红线范围折合约39.10亩）。项目规划总建筑面积42249.11平方米，其中：规划建设主体工程29626.39平方米，计容建筑面积42249.11平方米；预计建筑工程投资2962.98万元。（二）设备购置项目计划购置设备共计127台（套），设备购置费3019.68万元。二、产值规模项目计划总投资9573.00万元；预计年实现营业收入16117.00

47、万元。第五章 项目建设地点一、金属靶材项目建设选址原则为了更好地发挥其经济效益并综合考虑环境等多方面的因素，根据金属靶材项目选址的一般原则和金属靶材项目建设地的实际情况，“金属靶材项目”选址应遵循以下原则：1、布局相对独立，便于集中开展科研、生产经营和管理活动。2、与金属靶材项目建设地的建成区有较方便的联系。3、地理条件较好，并有足够的发展潜力。4、城市基础设施等配套较为完善。5、以城市总体规划为依据，统筹考虑用地与城市发展的关系。6、兼顾环境因素影响，具有可持续发展的条件。二、金属靶材项目选址方案及土地权属（一）金属靶材项目选址方案1、金属靶材项目建设单位通过对金属靶材项目拟建场地缜密调研，充分考虑了金属靶材项目生产所需的内部和外部条件：距原料产地的远近、企业劳动力成本、生产成本以及拟建区域产业配套情况、基础设施条件及土地成本等。2、通过对可供选择的建设地区进行比选，综合考虑后选定的金属靶材项目最佳建设地点金属靶材项目建设地，所选区域完善的基础设施和配套的生活设施为金属靶材项目建设提供了良好的投资环境。（二）工程地质条件1、根据建筑抗震设计规范（GB50011）标准要求，金属靶材项目建设地无活动断裂性通过，无液化土层及可能震陷的土层分布，地层均匀性密实较好，因此，本期工程金属靶材项目建设区处于地质构造运动相对良好的地带，地下