DF上课讲义.ppt

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1、DF上课讲义上课讲义23456789101112131415161718192021222324表面處理方式表面處理方式優點優點缺點缺點刷輪磨刷刷輪磨刷*投入成本低投入成本低*使用簡便使用簡便*低消耗低消耗*低資本低資本*銅屑過濾問題銅屑過濾問題*軟板無法使用軟板無法使用*刷輪需整刷及調水刷輪需整刷及調水 平平噴砂法噴砂法*極易維修極易維修*幾乎不需停機幾乎不需停機*初期投資低初期投資低*孔不會變形孔不會變形*軟硬板皆可使用軟硬板皆可使用*低水量需求低水量需求*無廢水處理問題無廢水處理問題*可用於基板磨刷可用於基板磨刷*低使用成本低使用成本*較一般磨刷機略大較一般磨刷機略大*如無回收設備成本如

2、無回收設備成本 較高較高化學微蝕化學微蝕*軟硬板皆可使用軟硬板皆可使用*孔不會變形孔不會變形*需用到較大場地需用到較大場地*廢液處理問題廢液處理問題*廢水處理問題廢水處理問題252627282930313233343536373839404142434445464748495051Class0.1m0.2m0.3m0.5m5.0m1 135357.57.53 31 11010350350757530301010100100 30030010010010001000100010007 71000010000100001000070701000001000001000001000007007005

3、2535455563.2.3.2.壓膜機壓膜機57585960異異 常常 原原 因因影影 響響因因 應應 對對 策策刷幅實驗不符標準刷幅實驗不符標準造成貼膜效果不佳。造成貼膜效果不佳。刷幅需調整至刷幅需調整至0.81.2cm之間。之間。水破實驗不符標準水破實驗不符標準造成銅面附著力不足。造成銅面附著力不足。水破實驗應水破實驗應15秒以上。秒以上。刷磨壓力過大或過小刷磨壓力過大或過小銅面刷磨不均勻，造成銅面刷磨不均勻，造成粗化不足，影響乾膜附粗化不足，影響乾膜附著不佳。著不佳。以廠商建議之刷壓值為以廠商建議之刷壓值為刷磨壓力。刷磨壓力。酸洗溶度不足或過高酸洗溶度不足或過高不足：無法有效去除銅不足

4、：無法有效去除銅 面上之有機物、面上之有機物、 油脂及氧化物油脂及氧化物 ， 造成銅面粗化不造成銅面粗化不 均。均。過高：造成銅面粗化不過高：造成銅面粗化不 均。均。H2SO4 調配濃度應在調配濃度應在35%之間，之間，每天交接班時作業員應每天交接班時作業員應主動送請化驗室作濃度主動送請化驗室作濃度分析，並依分析結果，分析，並依分析結果，進行添加或更新槽液。進行添加或更新槽液。61微蝕刻濃度過高或過微蝕刻濃度過高或過低低過低：無法完整去除銅過低：無法完整去除銅 面上之有機物、面上之有機物、 油油 脂或氧化物，脂或氧化物， 且銅面粗糙度不且銅面粗糙度不 均。均。過高：銅面粗糙度不均過高：銅面粗糙

5、度不均應每日請化驗室化驗濃應每日請化驗室化驗濃度，並作適當添加或更度，並作適當添加或更新槽液。新槽液。刷磨速度過快或過慢刷磨速度過快或過慢過快：銅面刷磨不完整過快：銅面刷磨不完整過慢：銅面刷磨過度，過慢：銅面刷磨過度， 且有橢圓孔產生且有橢圓孔產生 孔緣厚度不足孔緣厚度不足刷磨速度應介於刷磨速度應介於2.53.0m/min之間。之間。銅粉回收機壓力值過銅粉回收機壓力值過大大1.銅粉回留至銅面上形銅粉回留至銅面上形 成髒點。成髒點。2.銅粉流放至一般水溝銅粉流放至一般水溝 造成環境污染。造成環境污染。定期清洗銅粉回收機。定期清洗銅粉回收機。62吸水海綿不潔或壓力不吸水海綿不潔或壓力不足足不潔：造

6、成銅顆粒反沾不潔：造成銅顆粒反沾 回銅面上。回銅面上。壓力不足：孔內水分未壓力不足：孔內水分未 吸乾，經烘乾後吸乾，經烘乾後 ，水珠在銅面上，水珠在銅面上 形成水膜造成壓形成水膜造成壓 膜不良。膜不良。每日每日PM1700PM1700及及AM0400AM0400應應清洗吸水海綿；將壓力清洗吸水海綿；將壓力螺絲調整至適當位置。螺絲調整至適當位置。63壓膜速度過快壓膜速度過快造成壓膜不良。造成壓膜不良。依乾膜廠商建議之壓依乾膜廠商建議之壓膜速度，經實驗後制膜速度，經實驗後制定。定。貼膜溫度過高或過低貼膜溫度過高或過低過高：造成乾膜過度硬過高：造成乾膜過度硬 化聚合，導化聚合，導 致顯影不潔。蓋致顯

7、影不潔。蓋 孔處易孔緣流膠孔處易孔緣流膠 ，阻劑厚度變薄，阻劑厚度變薄 使得蓋孔性差。使得蓋孔性差。過低：貼膜不良，導致過低：貼膜不良，導致 過度顯影，形成過度顯影，形成 線粗。線粗。依乾膜廠商建議之貼依乾膜廠商建議之貼膜溫度，經實驗後制膜溫度，經實驗後制定。定。貼膜壓力過大或不足貼膜壓力過大或不足過大：蓋孔處過大：蓋孔處 孔緣流膠孔緣流膠 ，阻劑厚度變薄，阻劑厚度變薄 使得蓋孔性差。使得蓋孔性差。不足：貼膜不良，易有不足：貼膜不良，易有 空泡產生。空泡產生。依乾膜廠商建議之貼依乾膜廠商建議之貼膜壓力，經實驗後制膜壓力，經實驗後制定。定。64熱壓滾輪變形熱壓滾輪變形造成板面壓力不均，壓造成板面

8、壓力不均，壓力較小處乾膜與銅面附力較小處乾膜與銅面附著差，導致後續曝光及著差，導致後續曝光及顯影製程易出現問題。顯影製程易出現問題。每日應定時用異丙醇擦每日應定時用異丙醇擦拭，每半年應更新。拭，每半年應更新。熱壓滾輪溫度過高或過熱壓滾輪溫度過高或過低低過高：造成乾膜過度硬過高：造成乾膜過度硬 化聚合，導化聚合，導 致顯影不潔。蓋致顯影不潔。蓋 孔處易孔緣流膠孔處易孔緣流膠 ，阻劑厚度變薄，阻劑厚度變薄 使得蓋孔性差。使得蓋孔性差。過低：貼膜不良，導致過低：貼膜不良，導致 過度顯影，形成過度顯影，形成 線粗。線粗。依乾膜廠商建議之貼膜依乾膜廠商建議之貼膜溫度，經實驗後制定。溫度，經實驗後制定。黏

9、塵紙未更新黏塵紙未更新壓膜前：易有銅顆粒殘壓膜前：易有銅顆粒殘 留。留。壓膜後：易有膜屑殘留。壓膜後：易有膜屑殘留。每壓膜每壓膜150180片板子片板子就應更新黏塵紙。就應更新黏塵紙。65膜大板小膜大板小需用刀片割斷膜，而有需用刀片割斷膜，而有產生膜屑產生膜屑 ；且；且Mylar易易被撕起。被撕起。使用適合板子大小之乾使用適合板子大小之乾膜。膜。割刀轉述過快割刀轉述過快割刀離心力過大易將膜割刀離心力過大易將膜屑拋至板子上，形成膜屑拋至板子上，形成膜屑。屑。使用每分鐘使用每分鐘3500轉之割轉之割刀馬達。刀馬達。貼膜條不平整貼膜條不平整易造成空泡產生。易造成空泡產生。每日應定時用異丙醇擦每日應定

10、時用異丙醇擦拭；每半年應更新。拭；每半年應更新。壓膜後停置時間不足或壓膜後停置時間不足或太久太久不足：乾膜與銅面附著不足：乾膜與銅面附著 度不足。度不足。太久：孔緣流膠。太久：孔緣流膠。壓完膜板子應在壓完膜板子應在15分鐘分鐘置置24小時內進行曝光。小時內進行曝光。66曝光能量過低或過高曝光能量過低或過高過低：造成線粗過低：造成線粗過高：造成線細過高：造成線細每日定時使用每日定時使用21階能階能量表測試曝光能量，量表測試曝光能量，並依乾膜特性調整至並依乾膜特性調整至適當能量值。適當能量值。曝光照度過低或過高曝光照度過低或過高過低：造成線粗過低：造成線粗過高：造成線細過高：造成線細檢查聚光罩及其

11、他光檢查聚光罩及其他光學元件是否有問題；學元件是否有問題；燈管是唪超過使用時燈管是唪超過使用時間，以日本間，以日本USHIO為為例，建議最佳使用時例，建議最佳使用時間為間為800900小時。小時。曝光時間不足或過久曝光時間不足或過久不足：曝光不完全，造不足：曝光不完全，造 成線粗。成線粗。過久：曝光過度，造成過久：曝光過度，造成 線細。線細。依照乾膜特性所需的依照乾膜特性所需的曝光能量及照度訂定曝光能量及照度訂定出適當的曝光時間。出適當的曝光時間。吸真空不完全吸真空不完全造成線細造成線細可架設導氣條或更新可架設導氣條或更新遮光遮光Mylar。67遮光遮光MylarMylar受損受損造成吸真空不

12、完全。造成吸真空不完全。每週應更新依次遮光每週應更新依次遮光MylarMylar。清潔滾輪不潔或老化清潔滾輪不潔或老化髒點無法有效被黏除。髒點無法有效被黏除。曝光首應每日使用異曝光首應每日使用異丙醇清潔清潔滾輪；丙醇清潔清潔滾輪；若老化則應更新。若老化則應更新。曝光後停置時間不足或曝光後停置時間不足或過久過久不足：乾膜硬化不足易不足：乾膜硬化不足易 造成滲鍍。造成滲鍍。過久：已曝光區域會對過久：已曝光區域會對 未曝光區進行聚未曝光區進行聚 合反應，而造成合反應，而造成 線路顯影後形成線路顯影後形成 鋸齒狀。鋸齒狀。曝完光的板子應在曝完光的板子應在1515分鐘以後至分鐘以後至2424小時內小時內

13、顯影完畢。顯影完畢。底片刮傷、灰塵、凹痕底片刮傷、灰塵、凹痕造成固定髒點、缺口或造成固定髒點、缺口或斷路。斷路。曝光手應三曝一擦，曝光手應三曝一擦，且每且每9090分鐘左右使用分鐘左右使用1010倍目鏡檢查底片一倍目鏡檢查底片一次。次。684.4.4.4.顯影製程顯影製程顯影速度過快或過慢顯影速度過快或過慢過快：顯影不潔。過快：顯影不潔。過慢：顯影過度，有膜過慢：顯影過度，有膜 皺之虞。皺之虞。依乾膜廠商建議之顯依乾膜廠商建議之顯影速度，經實驗後制影速度，經實驗後制定。定。顯影溫度過高或過低顯影溫度過高或過低過高：顯影過度，有膜過高：顯影過度，有膜 皺之虞。皺之虞。過低：顯影不潔。過低：顯影不

14、潔。依乾膜廠商建議之顯依乾膜廠商建議之顯影溫度，經實驗後制影溫度，經實驗後制定。定。顯影壓力不足或過大顯影壓力不足或過大不足：顯影不潔。不足：顯影不潔。過大：孔破、顯影過度過大：孔破、顯影過度 造成側蝕。造成側蝕。依乾膜廠商建議之顯依乾膜廠商建議之顯影壓力，經實驗後制影壓力，經實驗後制定。一般為定。一般為1.5 0.5kg/cm2。 水洗壓力不足或過大水洗壓力不足或過大不足：已顯影完的乾膜不足：已顯影完的乾膜 無法完全被水洗無法完全被水洗 乾淨，而造成膜乾淨，而造成膜 屑。屑。過大：易造成孔破。過大：易造成孔破。建議水洗壓力值為建議水洗壓力值為1.5 0.5kg/cm2。 69顯影槽不潔顯影槽

15、不潔膜屑易反沾回板子上。膜屑易反沾回板子上。每日每日17:00及及04:00使用使用洗手粉清洗顯影槽。洗手粉清洗顯影槽。每週日使用強酸及強鹼每週日使用強酸及強鹼交替清洗顯影槽。交替清洗顯影槽。噴嘴阻塞噴嘴阻塞因噴壓不均，易導致顯因噴壓不均，易導致顯影不潔。影不潔。每週日顯影機大保養時每週日顯影機大保養時應檢查噴嘴是否有阻塞應檢查噴嘴是否有阻塞；而噴嘴經過長時間的；而噴嘴經過長時間的酸、鹼環境會有損耗發酸、鹼環境會有損耗發生，故建議每年應更新生，故建議每年應更新一次。一次。擋水滾輪不潔擋水滾輪不潔膜屑易反沾回板子上。膜屑易反沾回板子上。每日每日17:00及及04:00使用使用洗手粉清洗擋水滾輪。

16、洗手粉清洗擋水滾輪。吸水海綿不潔吸水海綿不潔膜屑易反沾回板子上。膜屑易反沾回板子上。每日每日17:00及及04:00使用使用洗手粉清洗擋水滾輪。洗手粉清洗擋水滾輪。海綿因易損耗，故建議海綿因易損耗，故建議三個月更新一次。三個月更新一次。70顯影濃度、顯影濃度、PH值過高值過高或過低或過低過高：顯影過度，造成過高：顯影過度，造成 線粗，且有滲渡線粗，且有滲渡 之虞之虞 。過低：顯影不潔，造成過低：顯影不潔，造成 線細或殘膜。線細或殘膜。建新藥液槽時，作業員建新藥液槽時，作業員應主動送藥液至化驗室應主動送藥液至化驗室檢驗，以了解濃度是否檢驗，以了解濃度是否符合規定。符合規定。濃度在濃度在1 1 0

17、.2%0.2%PHPH值在值在10.511.510.511.5之間之間顯影及水洗濾心不潔顯影及水洗濾心不潔噴壓變小，過濾效果變噴壓變小，過濾效果變差，而形成顯影不潔。差，而形成顯影不潔。每週三應更新顯影槽、每週三應更新顯影槽、水洗水洗1 1、2 2段及市水洗濾段及市水洗濾心。每週日則更新所有心。每週日則更新所有濾心。濾心。吹、烘乾段風刀口阻塞吹、烘乾段風刀口阻塞板材未乾。板材未乾。每日每日17:00及及04:00使用使用刀片清除風刀口阻塞之刀片清除風刀口阻塞之物；每週日應清洗鼓風物；每週日應清洗鼓風車之過濾罐。車之過濾罐。714.5.4.5.其他其他無塵室不潔無塵室不潔粉塵粉塵Particle

18、過多，過多，易掉落在底片或板子上易掉落在底片或板子上形成髒點。形成髒點。每日交接班前每日交接班前30分鐘應分鐘應派員仔細打掃無塵室。派員仔細打掃無塵室。人員穿著不符標準人員穿著不符標準粉塵粉塵Particle或衣或衣物毛屑，會藉由人體帶物毛屑，會藉由人體帶入無塵室形成污染源。入無塵室形成污染源。所有人員進入無塵室前所有人員進入無塵室前均需將無塵衣、帽、鞋均需將無塵衣、帽、鞋等穿戴整齊始可進入無等穿戴整齊始可進入無塵室。塵室。進無塵室未經空氣浴進無塵室未經空氣浴無法將無塵衣、帽、鞋無法將無塵衣、帽、鞋上之粉塵清除，而帶入上之粉塵清除，而帶入無塵室。無塵室。人員進入無塵室需經過人員進入無塵室需經過20秒空氣浴始可進入。秒空氣浴始可進入。一修人員手套沾墨一修人員手套沾墨反沾回板子，形成膜屑。反沾回板子，形成膜屑。 要求一修人員注意，並要求一修人員注意，並不定時更新手套。不定時更新手套。727374757677787980818283